[發(fā)明專利]光信息記錄介質(zhì)用反射層或半透明反射層、光信息記錄介質(zhì)和光信息記錄介質(zhì)用濺射靶

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 01136657.5
• 申請日: 2001-10-25
• 公開（公告）號: CN1361525A
• 公開（公告）日: 2002-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 中井淳一;大西隆;藤井秀夫;高木勝壽
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社神戶制鋼所
• 主分類號: G11B7/24
• 分類號: G11B7/24
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 汪惠民

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及能夠抑制Ag的擴(kuò)散，并且能夠抑制晶粒成長的光信息記錄介質(zhì)用反射層或半透明反射層(光盤用反射層或者光盤用半透明反射層)、光信息記錄介質(zhì)和光信息記錄介質(zhì)的反射層或半透明反射層用濺射靶。本發(fā)明的反射層或半透明反射層具有高反射率，因而適合用于CD-ROM、DVD-ROM等讀出專用光盤(不可寫入·更改)；CD-R、DVD-R等補(bǔ)寫型光盤(可以記錄一次和重復(fù)再生)；CD-RW、DVD-RAM、DVD-RW、DVD+RW、PD等改寫型光盤(可反復(fù)進(jìn)行記錄·再生的光盤)等。

背景技術(shù)

光盤有若干種，但由記錄再生原理的觀點(diǎn)出發(fā)，大致可以分為①讀出專用光盤、②改寫型光盤和③補(bǔ)寫型光盤三種。

其中，①的讀出專用光盤基本上是在聚碳酸酯基體等的透明基體上，層壓以Ag、Al、Au等為母材的反射膜層和紫外線固化樹脂保護(hù)膜層等保護(hù)膜層而形成。上述讀出專用光盤通過設(shè)置于透明塑料基體上的凹凸槽形成記錄數(shù)據(jù)，再通過檢測照射磁盤的激光的相位差和反射差使數(shù)據(jù)再生。除上述層壓型以外，如圖1所示，也有在透明塑料基體1上，通過粘接層3膠結(jié)設(shè)有半透明反射膜層2的基材和設(shè)有反射膜層4的基材，再層壓透明塑料基體5形成的結(jié)構(gòu)。作為采用這種數(shù)據(jù)讀出專用(不可寫入·記錄)方式的光盤如CD-ROM、DVD-ROM等。

其次，上述②的改寫型(相變化型)光盤是控制激光的功率和照射時間，通過在記錄層上形成準(zhǔn)晶質(zhì)相與非晶體相的異相狀態(tài)記錄數(shù)據(jù)，再通過用激光檢測兩相的反射率變化使數(shù)據(jù)再生。通過該記錄再生方式可反復(fù)進(jìn)行記錄·再生，通常能夠反復(fù)記錄數(shù)千次至數(shù)十萬次。上述改寫型光盤的基本結(jié)構(gòu)如圖2所示，在透明塑料基體1上層壓電介質(zhì)層7、記錄層8、電介質(zhì)層7、反射層4和透明塑料基體5的各種薄膜層而形成，作為采用所述方式的光盤，例如CD-RW、DVD-RAM、DVD-RW、DVD+RW等。

另外，上述③的補(bǔ)寫型光盤是通過激光的功率使記錄薄膜層(有機(jī)色素層)的色素發(fā)熱·變質(zhì)，通過使槽(預(yù)先在基板上刻制的溝)變形記錄數(shù)據(jù)，再通過檢測變質(zhì)處反射率與未變質(zhì)處反射率的差使數(shù)據(jù)再生。圖3表示補(bǔ)寫型光盤的基本結(jié)構(gòu)。圖中，1為透明塑料基體，6為有機(jī)色素層，4為反射膜層，5為透明塑料基體。該記錄再生方式有一次記錄的數(shù)據(jù)不能改寫(可以記錄一次和重復(fù)再生)的特點(diǎn)，作為采用所述方式的光盤例如CD-R、DVD-R等。

上述各種光盤中，對反射薄膜層材料要求反射率、熱傳導(dǎo)率、耐熱沖擊性、化學(xué)穩(wěn)定性[特別是耐蝕性(耐氧化性)]等諸特性優(yōu)良，記錄再生特性隨時間的變化少等。

例如上述②的改寫型光盤用反射薄膜層兼有熱擴(kuò)散層，因而除上述特性以外，還要求熱傳導(dǎo)率高。特別是在高記錄密度中，從提高記錄密度的觀點(diǎn)出發(fā)，反射放熱層的熱傳導(dǎo)率高是不可缺少的。可是實(shí)際情況是尚未能提供出滿足所述要求特性的反射層用材料。

例如作為改寫型光盤用反射薄膜層材料而被廣泛使用的Al合金，對用于記錄再生的激光波長(780nm，650nm)具有比較高的反射率和耐蝕性(化學(xué)耐蝕性)，但在反射率方面還不充分，與Au系或Ag系比較，存在反射率低的缺點(diǎn)。而且與Au系比較，除化學(xué)穩(wěn)定性差外，還有熱傳導(dǎo)率低的缺點(diǎn)。特別是改寫型和補(bǔ)寫型的各光盤也存在要求的高熱傳導(dǎo)性差的缺點(diǎn)。因此，在反射薄膜層中使用Al合金，難于使該反射層具備要求的各種特性，結(jié)果產(chǎn)生制約磁盤的結(jié)構(gòu)或設(shè)計(jì)的不合適情況。

因而有使用Au、Ag、Cu作為反射薄膜用材料代替Al合金的提案，但分別具有下面揭示的問題。

例如純Au或以Au為主要成分的合金具有化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)良，記錄再生特性隨時間的變化少，且能夠得到高反射率、高耐蝕性和高熱傳導(dǎo)率的優(yōu)點(diǎn)，但Au非常昂貴，不實(shí)用。而且存在對成為下一代主要激光波長的藍(lán)色(藍(lán)紫色、紫色)激光(波長405nm)不能充分得到高反射率的問題。

另外，純Cu或以Cu為主要成分的合金廉價，但除耐蝕性(特別是耐氧化性)差以外，還存在與Au系同樣，對藍(lán)色激光的反射率低的缺點(diǎn)。結(jié)果擔(dān)心導(dǎo)致磁盤的可靠性(耐久性)降低。

另外，純Ag或以Ag為主要成分的合金，雖然在實(shí)用波長范圍400～800內(nèi)具有充分高的反射率，但存在耐蝕性和記錄再生特性隨時間變化比Au系反射膜更差的問題。特別是Ag系合金中，Ag容易擴(kuò)散，因而存在容易產(chǎn)生晶粒成長等結(jié)構(gòu)變化，膜特性惡化的問題。

另一方面，在上述③的補(bǔ)寫型光盤的反射薄膜層中，也出現(xiàn)與上述②的改寫型光盤同樣的問題。