[發明專利]光信息記錄介質用反射層或半透明反射層、光信息記錄介質和光信息記錄介質用濺射靶有效
| 申請號： | 01136657.5 | 申請日： | 2001-10-25 |
| 公開（公告）號： | CN1361525A | 公開（公告）日： | 2002-07-31 |
| 發明（設計）人： | 中井淳一;大西隆;藤井秀夫;高木勝壽 | 申請（專利權）人： | 株式會社神戶制鋼所 |
| 主分類號： | G11B7/24 | 分類號： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 信息 記錄 介質 反射層 半透明 濺射 | ||
【權利要求書】：
1、一種能夠抑制Ag晶粒成長的光信息記錄介質用反射層或半透明反射層，其特征在于，用含有Nd0.1～3.0原子％的Ag基合金構成。
2、如權利要求1所述的反射層或半透明反射層，其特征在于，通過還含有至少一種選自Au、Cu、Pd、Mg、Ti和Ta的元素且合計為0.2～5.0原子％能夠提高耐氧化性。
3、如權利要求2所述的反射層或半透明反射層，其特征在于，含有至少一種選自Au、Cu和Pd的元素且合計為0.2～5.0原子％。
4、如權利要求3所述的反射層或半透明反射層，其特征在于，含有Cu0.2～5.0原子％。
5、一種光信息記錄介質，具有用權利要求1～4中任意一項所述的Ag基合金構成的反射層或半透明反射層。
6、一種光信息記錄介質用濺射靶，其特征在于，用權利要求1～4中任意一項所述的Ag基合金構成。
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