[發明專利]光記錄媒體及其制造方法

無效

• 申請號: 01121751.0
• 申請日: 2001-07-06
• 公開（公告）號: CN1337691A
• 公開（公告）日: 2002-02-27
• 發明（設計）人: 加藤達也;宇都宮肇;井上弘康;平田秀樹
• 申請（專利權）人: TDK株式會社
• 主分類號: G11B7/24
• 分類號: G11B7/24;G11B7/26
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 王永剛

[技術領域]

本發明涉及光記錄媒體及其制造方法。

[背景技術]

作為光記錄媒體例如有將有機染料用作記錄材料等的CD-R、DVD-R等的補寫型光盤，以及采用相變型記錄材料的CD-RW、DVD-RW等可改寫型光盤。這類光記錄媒體是在設有跟蹤用紋道(凹條部)的光盤基片上形成記錄層。在這些記錄媒體之中，在進行更高密度記錄的DVD-R與DVD-RW中，把紋道作為記錄磁道，而且把具有地址信息等預先格式設于相鄰的紋道間的凸條部(稱為紋間表面)中。圖5與圖6中例示了這種結構媒體的構造。這種媒體在基片102上具有記錄層(未圖示)，在基片102上存在相互大致平行的紋道109。用于記錄或再生的激光束從圖中下方照射。紋道104為記錄磁道，在此形成記錄標記10。在相鄰的紋道104與104之間是紋間表面103，而在此紋間表面103中則形成有預制坑105。具有圖5所示結構的光盤已描述于特開平9-326138號公報的圖15中，而具有圖6所示結構的光盤則記載于上述特開平9-326138號公報的圖3以及特開2000-132868號公報的圖1(a)之中。

下面說明光盤基片的一般制造方法。

光盤基片采用設有預制坑和紋道的字模圖案的沖壓模，通過對樹脂進行注射成型制造。上述沖壓模一般由Ni構成。為了制成此沖壓模，首先制作光盤的原盤，再由此原盤制作原模(一次復制盤)、母模(二次復制盤)與子模(三次復制盤)等。

光盤原盤一般由以下工序制造。首先于玻璃等組成的剛性基片表面上形成光致抗蝕劑等抗蝕劑材料組成的抗蝕劑層。隨即在由激光束等曝光用光束使抗蝕劑層曝光形成潛像圖案，然后顯像。通過這樣地將抗蝕劑層圖案化，可以制得光盤原盤。

在用此光盤原盤制作原模時，為使光盤原盤的抗蝕劑層表面上具有導電性，由濺射法或非電解鍍層等形成Ni薄膜。然后以此Ni薄膜為基底進行電鑄，形成Ni電鑄膜。將Ni薄膜與Ni電鑄膜組成的疊層體從抗蝕劑層剝離，將此疊層體用作原模。母模則是在原模的表面上形成Ni電鑄模，通過剝離此Ni電鑄膜制成。此時，對母模表面作氧化處理等，容易將Ni電鑄模剝離。通過同樣的作業，用母模可以制成子模。

在光盤原盤的制造工藝中，形成抗蝕劑層的潛像圖案的最小寬度受到曝光用光束的光束點直徑的限制。聚束點直徑W在以λ表示光束波長而以NA作照射光學系物鏡的數值孔徑時，表示為W＝k·λ/NA，式中的k為根據物鏡的孔徑形狀與入射光束的強度分布等確定的常數。在形成對應于紋道間潛像圖案時，使光束按螺旋狀掃描。在紋道間設有預制坑的情形。于潛像圖案形成時使用兩道光束，以一道光束連續地照射形成紋道圖案，以另一道光束間歇地照射形成預制坑圖案。這樣地使用兩道光束的方法在本說明書中稱為雙光束法。

如上所述，在制作用于制造紋道間具有預制坑結構的光盤的光盤原盤時，必須在光刻時個別控制兩束曝光用光束，遂使曝光裝置的結構與控制復雜化。

此外，隨著記錄密度的提高，還需要縮短預制坑的長度。但在既有的方法中，由于是以光束間歇地照射抗蝕劑層以在照射區域形成預制坑，例如就會由于光束的波長和照射光學系的數值孔徑限制預制坑的尺寸。具體地說，在光束波長與數值孔徑為一定的條件下來縮短預制坑的長度時(縮短曝光時間時)，當于抗蝕劑層中形成預制坑圖案，就不能將抗蝕劑層挖坑到其底面附近，結果就不能形成規定深度的預制坑，防礙預制坑的讀出。但通過縮短光束波長和更換為數值孔徑大的物鏡等對曝光系統作大規模的變動，則將顯著加大成本。

[發明內容]

本發明把設于支承基體中的紋道或紋間表面用作記錄磁道，而且對于設有預制坑的記錄媒體，使支承基體的制造與高密度記錄變得容易。

上述目的可以通過下述的(1)～(12)中的本發明內容來實現。

(1)光記錄媒體，它在支承基體上具有記錄層，在支承基體的記錄層形成面上交替地存在相互大致平行的凸條部與凹條部；存在作為連接相鄰凸條部的凸部的橫斷凸部，而此橫斷凸部在相鄰凸條部之間的中央附近具有成為最窄的平面形狀。

(2)在上述(1)內所述的光記錄媒體中，所述橫斷凸部用作預制坑。

(3)在上述(1)或(2)內所述的光記錄媒體中，于所述凸條部中存在孤立的凹部，而此孤立的凹部則用作預制坑。

(4)在上述(1)～(3)中任一之內所述的光記錄媒體中，通過使凹條部的一部分彎曲，在與此凹條部相鄰的凸條部中形成突出的區域，而將此突出區域用作預制坑。