[發明專利]光記錄媒體及其制造方法無效
| 申請號: | 01121751.0 | 申請日: | 2001-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN1337691A | 公開(公告)日: | 2002-02-27 |
| 發明(設計)人: | 加藤達也;宇都宮肇;井上弘康;平田秀樹 | 申請(專利權)人: | TDK株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/24 | 分類號: | G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 王永剛 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 記錄 媒體 及其 制造 方法 | ||
1.光記錄媒體,它在支承基體上具有記錄層,在支承基體的記錄層形成面上交替地存在相互大致平行的凸條部與凹條部;存在作為連接相鄰凸條部的凸部的橫斷凸部,此橫斷凸部在相鄰凸條部之間的中央附近具有成為最窄的平面形狀。
2.權利要求1所述的光記錄媒體,其中所述橫斷凸部用作預制坑。
3.權利要求1或2所述的光記錄媒體,其中于所述凸條部中存在孤立的凹部,而此孤立的凹部用作預制坑。
4.權利要求1~3中任一項所述的光記錄媒體,其中通過使凹條部的一部分彎曲,在與此凹條部相鄰的凸條部中形成突出區域,而此突出區域用作預制坑。
5.光記錄媒體,它在支承基體上具有記錄層,在支承基體的記錄層形成面上交替地存在相互大致平行的凸條部與凹條部;存在作為連接相鄰凹條部的凹部的橫斷凹部,此橫斷凹部在相鄰凹條部之間的中央附近具有成為最窄的平面形狀。
6.權利要求5所述的光記錄媒體,其中所述橫斷凹部用作預制坑。
7.權利要求5或6所述的光記錄媒體,其中所述凹條部內存在孤立的凸部,而此孤立的凸部用作預制坑。
8.權利要求5~7中任一項所述的光記錄媒體,其中通過使凸條部的一部分彎曲,在與此凸條部相鄰的凹條部中形成突出區域,而此突出區域用作預制坑。
9.權利要求1~8中任一項所述的光記錄媒體,其中將凸條部或凹條部用作記錄磁道。
10.權利要求1~9中任一項所述的光記錄媒體,其中于支承基體上具有相對于用于記錄或再生的激光束可透光的基體或膜層,而上述激光束可通過此基體或膜層入射到所述記錄層;凸條部起到紋道的作用而凹條部則起到紋間表面的作用。
11.權利要求1~9中任一項所述的光記錄媒體,其中上述支承基體相對于用于記錄或再生的激光束具有透光性,所述激光束通過此支承基體入射到前述記錄層內;凸條部起到紋間表面的作用而凹條部則起到紋道的作用。
12.光記錄媒體的制造方法,此光記錄媒體在支承基體上具有記錄層,在支承基體的記錄層形成面上交替地存在相互大致平行的凸條部與凹條部,而在凸條部或凹條部中存在預制坑;
在制備用于前述支承基體制造中的具有形成凸條部、凹條部與預制坑各個的母模圖案的抗蝕劑層的光盤原盤之際,在通過將曝光用光束照射抗蝕劑層來形成前述母模圖案的工序中,用一束曝光用的光束間歇地照射,使照射了曝光用光束的區域作為凹條部或凸條部的母模圖案,而將未照射曝光用光束的區域作為預制坑的母模圖案。
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