[發(fā)明專利]成膜裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 01119694.7
• 申請日: 2001-03-26
• 公開（公告）號: CN1325129A
• 公開（公告）日: 2001-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 池上浩;早坂伸夫;伊藤信一;奧村勝彌
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社東芝
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 王以平

(本申請基于并要求2000年3月28日提交的在先日本專利申請第2000-89738號為優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容在此一并作為參考。)

本發(fā)明涉及在被處理襯底上涂敷液體的成膜方法，尤其是涉及被利用于控制涂敷量的方法。

作為在襯底上形成液狀膜的方法，利用平版印刷處理的抗蝕劑的旋涂法是公知的。并且在近年來，旋涂法正被應(yīng)用到絕緣膜和金屬膜的成膜中。然而，在旋涂法中，供給襯底上的藥液幾乎都排出襯底外，由于僅殘留極小的百分比用在成膜上，所以藥液大多浪費，這給環(huán)境帶來了很壞的影響。并且，問題還在于在方形襯底和12英寸以上的圓形襯底中，其外周部分產(chǎn)生氣流，在該部分膜厚不均勻。

作為不浪費藥液并在整個襯底上均勻涂敷的方法，在特開平2-220428號公報中記載了通過成一列配置的多個噴嘴噴出抗蝕劑溶液，從其后方在成膜面上吹氣或藥液，獲得均勻的膜的方法。并且，在特開平6-151295號公報中記載了在棒上設(shè)置多個噴霧口，以此向襯底上噴出抗蝕劑，獲得均勻膜的方法。既使在這些涂敷裝置中的任一個，通過沿襯底表面使多個橫列配置的噴出或噴霧嘴掃掠，也能得到均勻的膜。

然而，在這樣的涂敷法中，不能局部控制在襯底面內(nèi)的成膜厚度。

作為不浪費藥液且在襯底面內(nèi)控制涂敷量的方法，提出了在被處理襯底的成膜區(qū)域上通過噴嘴供給藥液，進行液狀膜的成膜的方法。通過使用形成ON/OFF藥液的噴出的精密涂敷嘴進行使用藥液供給嘴的涂敷量的控制。精密涂敷嘴經(jīng)驅(qū)動設(shè)置在噴出口上部的噴嘴內(nèi)設(shè)置的針狀和螺旋等的閥，控制藥液的噴出量。

在這些方式中，問題是，當(dāng)驅(qū)動閥時，借助閥和藥液的摩擦產(chǎn)生微粒，在打開閥時，流下的藥液中所含的微粒被輸送到襯底上。問題還在于就在閥被打開后，相關(guān)藥液的壓力變化產(chǎn)生脈動流，使成膜厚度產(chǎn)生偏差。

作為抑制微粒混入和脈動流產(chǎn)生的藥液噴出量控制的方法，在美國專利申請?zhí)?9/335,508中，記載了利用從滴下的藥液側(cè)吹氣，阻斷藥液供給的方法。

在該美國專利申請?zhí)?9/335,508中，通過在照射光產(chǎn)生氣體的材料上照射光，而產(chǎn)生氣體，通過產(chǎn)生的氣體壓力使從噴嘴噴出的藥液軌跡變化。用在下方設(shè)置的藥液回收部回收軌跡變化的藥液，阻斷向襯底的藥液供應(yīng)。

在該方式中，一方面在氣體發(fā)生膜上照射光并加熱使氣化，另一方面對于位于其前方的滴下藥液必須抑制光的照射影響。但是，在美國專利申請?zhí)?9/335,508中沒有抑制光照射影響的對策。

另外，當(dāng)在單元移動部內(nèi)設(shè)置板狀氣體發(fā)生膜時，由于其大小受到限制，所以能降低滴下藥液僅100次。為了對被處理襯底的整個面上進行阻斷，由于必須在10⁵-10⁷個位置減少藥液，所以在該方式中成為問題的是位置削減得少。

本發(fā)明目的在于提供一種成膜裝置，邊通過由光照產(chǎn)生氣體的材料形成的氣體壓力局部控制滴下的藥液的滴下量，邊進行成膜，其特征是，氣體發(fā)生膜上照射的光可抑制對藥液的影響。

并且，本發(fā)明的其他目的在于提供一種成膜裝置，能緩解滴下降低次數(shù)的限制。

為了達到上述目的，本發(fā)明提供以下構(gòu)成：

(a)本發(fā)明的成膜裝置具有：藥液噴嘴，對被處理襯底連續(xù)噴出藥液；氣體噴出部，配置在該藥液噴嘴的下方，對該噴嘴噴出的藥液吹氣，利用該氣體壓力改變藥液軌跡；藥液回收部，使對噴出的藥液與所述液體軌跡變化部相隔配置，回收利用該氣體噴出部改變軌跡的藥液；移動部，使所述液體噴嘴和所述被處理襯底作相對移動；所述氣體噴出部具有：激光振蕩器，使脈沖激光振蕩；和氣體發(fā)生膜，利用所述激光振蕩器照射的激光加熱氣化產(chǎn)生所述氣體。

(b)本發(fā)明的成膜裝置具有：藥液噴嘴，對被處理襯底連續(xù)噴出藥液；氣體噴出部，配置在該藥液噴嘴的下方，對該噴嘴噴出的藥液吹氣，利用該氣體壓力改變藥液軌跡；藥液回收部，使對噴出的藥液與所述液體軌跡變化部相隔配置，回收利用該氣體噴出部改變軌跡的藥液；移動部，使所述液體噴嘴和所述被處理襯底作相對移動；所述氣體噴出部具有：光照射部；帶狀氣體氣體發(fā)生膜，利用所述光照射部照射的光加熱氣化產(chǎn)生所述氣體；和卷繞器，驅(qū)動該氣體發(fā)生膜。

利用上述構(gòu)成，本發(fā)明有如下作用和效果。

控制光脈沖幅度，使在氣體發(fā)生膜氣化之前中止激光的照射，由此，對滴下的藥液可不照射激光，所以對藥液無影響。

使用帶狀氣體發(fā)生膜，由卷繞器驅(qū)動氣體發(fā)生膜，由此可緩和藥液滴下降低次數(shù)的限制。

圖1A表示第1實施例的成膜裝置示意性構(gòu)成圖；