[發(fā)明專利]光盤原版盤的制造方法

無效

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• 申請日: 2001-04-13
• 公開（公告）號: CN1332451A
• 公開（公告）日: 2002-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高畑廣彰;小宅久司
• 申請（專利權(quán)）人: TDK株式會社
• 主分類號: G11B7/26
• 分類號: G11B7/26;G03F7/00
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 段承恩

本發(fā)明涉及制造用于光盤基板的制造的光盤原版盤的方法。

在光盤中有可追記或重寫的光記錄盤和再生專用盤。光記錄盤在盤基板上形成記錄層，在盤基板的表面中設(shè)置有用于跟蹤等的槽(導(dǎo)槽)。另一方面，在再生專用盤中，在盤基板表面上一體形成具有信息的凹坑。

盤基板通過使用設(shè)置了凹坑和槽的負(fù)圖案的壓模、射出成形樹脂來制造。上述的壓模通常由Ni構(gòu)成。為了制作該壓模，首先要制作光盤原版盤。光盤原版盤一般由下面的工序來制造。首先，在由玻璃形成的基板表面上形成光保護(hù)賦予層。接著，由激光束曝光光刻膠層形成潛影圖案后進(jìn)行顯影。

一般如下所述來進(jìn)行使用光盤原版盤的壓模制作。首先，為了向光盤原版盤的光刻膠層表面賦予導(dǎo)電性，通過濺射和非電解電鍍等形成由Ni等形成的金屬薄膜。接著，以該金屬薄膜作為襯底進(jìn)行電鑄造，形成由Ni等形成的電鑄造膜。接著，從光刻膠剝離由金屬薄膜和電鑄造膜形成的迭層體。該迭層體即為原版盤。該原版盤能夠原樣用作壓模，另外能夠制作母盤并將它用作壓模。通過在原版盤表面上形成電鑄造膜并剝離該電鑄造膜來制作母盤。此時，酸化原版盤的表面，可容易地剝離電鑄造膜，通過同樣的操作，使用母盤來制作子盤將其用作壓模。

在光盤原版盤的制造工序中，在光刻膠中形成的潛影圖形的最小寬度由激光束的光斑直徑限制。激光波長為λ、照射光學(xué)系統(tǒng)的物鏡的數(shù)值孔徑為NA時，光束光斑的直徑w用w＝k*λ/NA表示。另外，k為由物鏡的孔徑形狀、入射光束的強(qiáng)度分布所決定的常數(shù)。因此，為了使凹坑寬度和槽寬度變小，有必要使激光的波長變短或使物鏡的數(shù)值孔徑變大。

但是，要使具有超過0.9的大數(shù)值孔徑的物鏡實用化，改善的余地小。另一方面，對于激光波長而言，波長短的蘭色激光已波實用化。因此，為了進(jìn)一步減小潛影圖案的最小寬度，因此有必要使用更短波長的激光，例如紫外區(qū)域的激光。但是在使用紫外區(qū)域的激光時，有必要對應(yīng)于紫外區(qū)域來變更包含物鏡的光學(xué)部件。即需要大幅度變更系統(tǒng)。

因此，在特開平1-317241號公報中，在制作光盤原版盤時，提出添加未曝光的光刻膠膜浸入顯影液中或在光刻膠膜上淋上顯影液后、水洗、干燥的工序，作為曝光光刻膠膜工序的前一工序。在同一公報中，通過在曝光前加入顯影、水洗、干燥工序，使光刻膠膜表面難以溶化，因此形成寬度狹窄的溝和直徑小的凹坑。在同一公報中，進(jìn)行濃度為50％、時間為10秒的曝光前的顯影。

另外，在特開平6-260407號公報中記載了一種方法，在半導(dǎo)體基板上涂覆光刻膠層后，通過進(jìn)行堿性處理在光刻膠層表面上形成難溶化層，接著，進(jìn)行曝光和顯影后形成抗蝕劑圖案。在同一公報中記載的作用如下所述。通過堿性處理由堿來溶解光刻膠中的小分子，由此進(jìn)行光刻膠層表面的硬化，同時，因為光刻膠中的酚醛樹脂和感光基通過堿化引起偶氮(azocoupling)反應(yīng)，所以在光刻膠層表面上形成難溶化層。由于該難溶化層導(dǎo)致抑制了光刻膠層的未曝光部分中的溶解速度，提高了陽極(positive)型光刻膠的析象度。在同一公報中，通過在光刻膠層上盛裝氫氧化季銨來進(jìn)行堿性處理。

在上述特開平1-317241號公報和上述特開平6-260407號公報中，通過顯影液或氫氧化季銨來使光刻膠層難溶，試圖由此來提高析象度。

但是，因為顯影液或氫氧化季銨等堿性處理液在廢棄時有必要進(jìn)行排液處理(中和)，所以導(dǎo)致成本高。

另外，光刻膠通過曝光而變得堿性可溶。為此，如上述各公報所示，堿處理只能在曝光前進(jìn)行。另外，通過浸漬于堿性液中和堿性液的淋濕來進(jìn)行堿性處理，在處理后，必需設(shè)計用純水來清洗和干燥的工序。但是，在以流水線方式來進(jìn)行一系列工序的光平板印刷裝置中，在光刻膠涂覆工序和曝光工序之間因為沒有加入水洗和干燥用裝置，所以有必要脫機(jī)(offline)進(jìn)行堿性處理。

本發(fā)明是鑒于已有的技術(shù)做出的。本發(fā)明的目的在于，在制造光盤原版盤時，抑制成本的增加，另外，以制造工序中的負(fù)荷的最小限度來制造具有比已有技術(shù)的更細(xì)微的圖案的光盤原版盤。

上述目的通過下述(1)-(6)的本發(fā)明來實現(xiàn)。

(1)一種光盤原版盤的制造方法，該方法是制造表面上具有凹凸圖案的光盤原版盤的方法，

包括在基板上形成光刻膠層的光刻膠層形成工序、通過曝光光刻膠層來形成上述凹凸圖案的潛影的曝光工序和顯影上述潛影的顯影工序，

在光刻膠層形成工序和曝光工序之間，或在曝光工序和顯影工序之間具有使光刻膠層與表面活性劑接觸的表面活性劑處理工序。