[發(fā)明專利]光盤原版盤的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 01117852.3 | 申請日： | 2001-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN1332451A | 公開（公告）日： | 2002-01-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 高畑廣彰;小宅久司 | 申請（專利權(quán)）人： | TDK株式會社 |
| 主分類號： | G11B7/26 | 分類號： | G11B7/26;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人： | 段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光盤 原版 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種光盤原版盤的制造方法，該方法是制造表面上具有凹凸圖案的光盤原版盤的方法，包括：
在基板上形成光刻膠層的光刻膠層形成工序、通過曝光光刻膠層來形成上述凹凸圖案的潛影的曝光工序和顯影上述潛影的顯影工序，
在光刻膠層形成工序和曝光工序之間，或在曝光工序和顯影工序之間具有使光刻膠層與表面活性劑接觸的表面活性劑處理工序。
2.如權(quán)利要求1的光盤原版盤的制造方法，上述表面活性劑是非離子系表面活性劑。
3.如權(quán)利要求1或2的光盤原版盤的制造方法，在曝光工序和顯影工序之間具有表面活性劑處理工序。
4.如權(quán)利要求1至3中任一光盤原版盤的制造方法，在上述表面活性劑處理工序中使用濃度為0.1-10％的表面活性劑溶液。
5.如權(quán)利要求1-4中任一光盤原版盤的制造方法，當(dāng)在未設(shè)計上述表面活性劑處理工序時的最合適曝光量為D0、設(shè)計上述表面活性劑處理工序時的曝光量為D1時，有1.1≤D1/D0≤2。
6.如權(quán)利要求1-5中任一光盤原版盤的制造方法，在上述表面活性劑處理工序中，通過旋涂或浸漬使表面活性劑溶液與光刻膠接觸。
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