[發明專利]有機場致發光元件的制造方法、有機場致發光元件

有效

• 申請號: 01112230.7
• 申請日: 2001-03-30
• 公開（公告）號: CN1320011A
• 公開（公告）日: 2001-10-31
• 發明（設計）人: 藤森南都夫;石田方哉
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;H01L33/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 楊凱,葉愷東

1．一種有機EL元件的制造方法，該有機EL元件在陰極與陽極之間具有至少包含發光層的1層或2層以上的構成層，該制造方法的特征在于：

具有對于至少1層的構成層、使用具有與構成層的形成區域對應的開口部的圖形、將包含構成層的形成材料的液體有選擇地配置在構成層的形成區域中的工序，

在該液體配置工序中，使用具有可與膜形成面的構成原子結合的官能團和對于上述液體為斥液性的官能團的化合物，形成表面對于上述液體為斥液性的有機極薄膜圖形作為上述圖形。

2．如權利要求1中所述的有機EL元件的制造方法，其特征在于：

對于至少1層的構成層，在上述有機極薄膜圖形形成工序與液體配置工序之間，對于被形成構成層的面，使用具有可與膜形成面的構成原子結合的官能團和對于上述液體為親液性的官能團的化合物，進行形成表面對于上述液體為親液性的有機極薄膜的工序。

3．如權利要求1或2中所述的有機EL元件的制造方法，其特征在于：

上述有機極薄膜圖形是由自組織膜構成的圖形。

4．如權利要求1中所述的有機EL元件的制造方法，其特征在于：

上述斥液性有機極薄膜圖形是由自組織膜構成的圖形，上述自組織膜由具有氟烷基的材料構成。

5．如權利要求1中所述的有機EL元件的制造方法，其特征在于：

由使用上述化合物在整個面上形成表面為斥液性的有機極薄膜的工序和對于該有機極薄膜通過經光掩模照射紫外線來除去與該有機極薄膜的構成層形成區域對應的部分的工序來進行上述有機極薄膜圖形的形成工序。

6．如權利要求2中所述的有機EL元件的制造方法，其特征在于：

上述親液性有機極薄膜是具有氨基或羧基作為親液性的官能團的自組織膜。

7．如權利要求1～6的任一項中所述的有機EL元件的制造方法，其特征在于：

用噴墨法來進行液體配置工序。

8．一種有機EL元件，該有機EL元件在陰極與陽極之間具有發光層及空穴注入層和/或空穴輸送層，其特征在于：

利用由絕緣薄膜層和使用具有可與膜形成面的構成原子結合的官能團和斥液性的官能團的化合物在該絕緣薄膜層上形成的、表面為斥液性的有機極薄膜層構成的二層結構的隔壁，包圍了發光層及空穴注入層和/或空穴輸送層中的至少一方。