[發明專利]薄膜磁頭用滑動器的制造方法

無效

• 申請號: 01101358.3
• 申請日: 2001-01-02
• 公開（公告）號: CN1310441A
• 公開（公告）日: 2001-08-29
• 發明（設計）人: 佐佐木芳高
• 申請（專利權）人: TDK株式會社
• 主分類號: G11B5/39
• 分類號: G11B5/39;G11B5/60
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 楊凱,王忠忠

1、一種薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，該方法是具有與記錄媒體相對的媒體對置面和配置在媒體對置面附近的薄膜磁頭元件的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于，具有：

對于包含薄膜磁頭元件的滑動器用的原料形成媒體對置面的工序；以及

對上述媒體對置面的至少一部分進行刻蝕、使媒體對置面中與薄膜磁頭元件對應的部分和其它部分之間的臺階差減小或將與薄膜磁頭元件對應的部分配置在比其它部分中的至少一部分更靠近記錄媒體的位置上的工序。

2、如權利要求1記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：形成媒體對置面的工序包括研磨上述滑動器用原料中的成為媒體對置面的面。

3、如權利要求1記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：進而具有在上述刻蝕工序之后在上述媒體對置面上形成保護膜的工序。

4、如權利要求3記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：上述保護膜由類金剛石碳形成。

5、如權利要求3記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：進而具有在上述保護膜上形成凸部的工序。

6、如權利要求1記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：進而具有在形成上述媒體對置面的工序之后在上述媒體對置面上形成保護膜的工序，

在上述刻蝕工序中，對上述保護膜進行部分刻蝕。

7、如權利要求6記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：上述保護膜由類金剛石碳形成。

8、如權利要求6記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：上述保護膜的厚度大于上述刻蝕工序前上述媒體對置面中的與薄膜磁頭元件對應的部分與其它部分中的至少一部分之間的臺階差。

9、如權利要求1記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：在上述刻蝕工序中，在媒體對置面中的其它部分上形成凸部。

10、如權利要求1記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：在上述刻蝕工序中使用離子研磨。

11、如權利要求1記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：在上述刻蝕工序中使用反應性離子刻蝕。

12、如權利要求1記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：在上述刻蝕工序中利用聚焦離子束進行刻蝕。

13、如權利要求12記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：在上述刻蝕工序中，以媒體對置面的端部為基準進行聚焦離子束的位置對準。

14、如權利要求12記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：在上述刻蝕工序中，使上述媒體對置面的形狀成為在媒體對置面中與空氣流入側的端部和空氣流出側的端部相比其中間部分向記錄媒體一側突出的形狀。

15、如權利要求14記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：在上述刻蝕工序中，媒體對置面的形狀是從媒體對置面上的空氣流入側的端部到空氣流出側的端部呈弧形的形狀。

16、如權利要求12記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：上述薄膜磁頭元件具有磁阻元件，在上述刻蝕工序中，控制從上述磁阻元件的媒體對置面一側的端部到相反一側的端部的長度。

17、如權利要求12記載的薄膜磁頭用的滑動器的制造方法，其特征在于：上述薄膜磁頭元件也可以具有包含相互以磁的方式耦合的、在媒體對置面一側相互對置的磁極部分，且具有分別包含至少一層的第1和第2磁性層、設在上述第1磁性層的磁極部分與上述第2磁性層的磁極部分之間的間隙層和至少一部分在上述第1和第2磁性層之間且對上述第1和第2磁性層在被絕緣的狀態下設置的薄膜線圈，

在上述刻蝕工序中，控制從上述磁極部分的媒體對置面一側的端部到相反一側的端部的長度。