[發明專利]用于半導體器件個性化的裝置與方法

有效

• 申請號: 00816201.8
• 申請日: 2000-11-24
• 公開（公告）號: CN1399796A
• 公開（公告）日: 2003-02-26
• 發明（設計）人: 托布喬恩·桑德斯托姆
• 申請（專利權）人: 微激光系統公司
• 主分類號: H01L23/544
• 分類號: H01L23/544
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 王永剛

1.一種供設計與生產具有相同的功能但有一個芯片至芯片不同的芯片唯一信息例如系列號或隱藏的密匙的微電子器件用的方法，包括步驟：

通過光分步機使用一個掩?；驑司€板曝光所述微電子器件的至少一層，在同一工件或晶片上形成一個至少在兩個單元芯片之間恒定的子圖案，

通過使用光圖案發生器曝光所述微電子器件同樣的至少一層，形成一個至少在兩個單元芯片之間可變的子圖案，所述子圖案包括所述芯片唯一信息。

2.根據權利要求1所述的方法，其中光分步機與光圖案發生器使用相同的波長。

3.根據權利要求1所述的方法，其中光分步機與光圖案發生器使用不同的波長。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的方法，其中光分步機與光圖案發生器為同一機器。

5.根據權利要求1-3中任一項所述的方法，其中光分步機與光圖案發生器為不同的機器。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的方法，其中所述光圖案發生器是一個計算機控制的標線板。

7.根據權利要求6的方法，其中所述計算機控制的標線板是一個空間光調制器(SLM)。

8.根據權利要求6或7所述的方法，其中光圖案發生器是一個模擬空間光調制器(SLM)，包括在以所述可變的子圖案曝光微電子器件之前校正位置的附加步驟。

9.根據權利要求8所述的方法，其中位置校正包括步驟：

測量與正確位置相比的臺位置誤差，

通過一個卷積核卷積載入SLM的位映圖，從而依照測量的位置誤差選擇或修正所述核以便校正所述位置誤差。

10.根據權利要求1-9中任一項所述的方法，其中所述恒定的與所述可變的子圖案至少部分地同時曝光。

11.根據權利要求1-9中任一項所述的方法，其中所述恒定的與所述可變的子圖案互相間連續曝光。

12.一種供在微電子或微光學器件上寫入芯片唯一信息用的設備，其特征在于：

一個使用標線板投射的第一曝光系統，

一個使用空間光調制器投射的第二曝光系統。

13.根據權利要求12所述的設備，其中第二曝光系統包括一個模擬空間光調制器。

14.根據權利要求12或13所述的設備，其中第一與第二曝光系統使用相同的波長。

15.根據權利要求12或13所述的設備，其中第一與第二曝光系統使用不同的波長。

16.根據權利要求12-15中任一項所述的設備，其中它還包括一個供控制用于在微電子或微光學器件上寫入芯片唯一信息的至少第二曝光系統用的控制系統。

17.根據權利要求16所述的設備，其中控制系統包括：

一個供開動包括器件的曝光場的曝光的第一曝光系統用的控制系統，

一個編譯關于所述特定器件的編程信息的代碼寫入機控制系統，

與一個供建立一個待供給用于所述特定器件的空間光調制器(SLM)的硬件格式用的代碼光柵化單元。

18.一種有一個芯片唯一代碼或其它信息的微電子器件，其特征在于有許多層，至少一個所述層有一個由標線板曝光的恒定部分，與一個由圖案發生器曝光的同一層上的可變部分。

19.一種供控制分步機在晶片上標記至少一個單元芯片用的控制系統，其特征在于：

一個開動包括該單元芯片的曝光場的曝光的分步機控制系統，

一個編譯關于一個特定單元芯片的編程的信息的代碼寫入機控制系統，

與一個供建立一個待供給用于一個特定單元芯片的空間光調制器(SLM)的硬件格式用的代碼光柵化單元。

20.一個供帶有芯片唯一信息例如系列號或隱藏的密匙的芯片用的沒計塊，其特征在于它包括：

一個描述此設計塊的恒定部分布局的布局塊，

一個規定待寫入的代碼的類型與該代碼的位置的控制塊，

與一個數據塊，此塊的內容通過例如參考一個數據庫或一個指令序列來描述。