[發(fā)明專利]涂布用組合物無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00812359.4 | 申請日: | 2000-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN1372585A | 公開(公告)日: | 2002-10-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張祖依;川部和廣;熊野聰;若林肇;小西明男 | 申請(專利權)人: | 日本山村硝子株式會社 |
| 主分類號: | C09D183/04 | 分類號: | C09D183/04;C09D183/06 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 任宗華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 涂布用 組合 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種涂布用組合物。更具體說,本發(fā)明涉及一種涂布用組合物,該組合物含有潛在酸性催化劑作為固化劑并且可以形成具有杰出化學耐用性如耐水性和耐沸水性的有機聚硅氧烷涂布膜。
背景技術
迄今,人們一直期望具有杰出化學耐用性如耐候性、耐水性和耐化學性以及杰出機械性能如硬度的疏松材料(bulk?material)、涂布膜和獨立薄膜。與此相關,由有機烷氧基硅烷制備硅氧烷低聚物的研究在積極地進行。通過向所得硅氧烷低聚物的溶液中添加固化劑形成涂布膜的研究也在如火如荼地進行。
例如,在JP專利申請?zhí)亻_昭63(1988)-117074中,提出了一種涂布用組合物,其含有有機三烷氧基硅烷的縮合物、膠體二氧化硅、水、親水有機溶劑以及如果需要的話還含有以胺為基料的硅烷偶聯(lián)劑作為固化劑,此涂布用組合物具有杰出的儲藏穩(wěn)定性并且可在金屬、陶瓷和玻璃的表面形成具有高硬度和杰出機械性能的涂布膜。在JP專利申請?zhí)亻_昭63(1988)-137972中,提出了一種涂布用組合物,其含有有機三烷氧基的縮合物、膠體二氧化硅、水、親水有機溶劑和固化劑,所說的固化劑選自具有2或3個氮原子的雜環(huán)化合物、烷氧基鋁和鋁與β-二酮的螯合化合物。然而,由這些涂布用組合物獲得的涂布膜具有耐沸水性差的缺點,因為具有大應變的鍵容易留在聚硅氧烷骨架結構中。
在JP專利申請?zhí)亻_平6(1994)-199528中,公開了一種技術,其中通過使用鹵離子作為催化劑在硼離子的存在下將可水解的有機金屬化合物水解和脫水縮合同時將pH調整至4.5-5.0,并且將所得的制品涂敷到底材上形成玻璃涂布膜。然而,按照上述方法獲得的玻璃涂布膜具有耐沸水性差的缺點。
已知一種使用氫氧化鉀作為催化劑由苯基硅倍半氧烷([C6H5SiO3/2]n)合成在250℃下穩(wěn)定的梯形聚合物的方法(J.F.Brown,Jr.等,J.Am.Chem.Soc.,1960,第82卷,第6194頁)。然而,此方法的缺陷是材料僅限于苯基硅倍半氧烷并且用于常溫下使膜固化和使膜與接觸面粘合所必需的硅烷醇基的量較少。
迄今為止,已知可以通過使用強酸作為催化劑將有機烷氧基硅烷水解。然而,當通過在酸催化劑的存在下水解和縮聚甲基三烷氧基硅烷來合成甲基硅倍半氧烷([CH3SiO3/2]n)時,勢必會形成八聚物沉淀,并且難以制備適合涂布材料的穩(wěn)定的低聚物溶液(Z.Zhang等,J.Non-Cryst.Solids,1995,第189卷,第212頁)。
因此,需要開發(fā)一種涂布用組合物,其中在涂布膜形成的過程中可以使通過將烷氧基硅烷水解和縮聚獲得的硅氧烷低聚物重排成鍵中沒有應變的聚硅氧烷骨架結構,同時可以促進固化。
本發(fā)明的目的是提供一種從來自含硅氧烷低聚物的溶液的涂布用組合物,該組合物可以形成有機聚硅氧烷的涂布膜,所形成的膜具有杰出的化學耐用性,如耐水性和耐沸水性,其中所說的硅氧烷低聚物是通過將烷氧基硅烷水解和縮聚獲得的。
發(fā)明公開
本發(fā)明者為解決上述缺陷進行了深入的研究,結果發(fā)現(xiàn),當在涂布膜形成的過程中,向含有通過烷氧基硅烷水解和縮聚制備的硅氧烷低聚物的溶液中添加起潛在酸性催化劑作用的固化用催化劑時,可以獲得具有杰出耐水性、耐沸水性和耐酸性的有機聚硅氧烷的涂布膜。基于這個認識本發(fā)明得以完成。
本發(fā)明提供:(1)一種涂布用組合物,該組合物含有:
作為組分(A)的含硅氧烷低聚物的溶液,其中所說的硅氧烷低聚物具有由下式所示的平均結構單元:
??????????????????R1nSiOx/2(OH)y(OR2)z其中R1表示1-3碳原子的烷基、乙烯基或苯基,當存在多個R1時,多個R1可以表示相同的基團或不同的基團,R2表示1-3碳原子的烷基,當存在多個R2時,多個R2可以表示相同的基團或不同的基團,n、x、y和z表示滿足以下關系的數(shù)字:0.8≤n≤1.7,2<x<3.2,y>0,z>0且y+z=4-n-x;和
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C09D183-14 .其中至少兩個,但不是所有的硅原子與氧以外的原子連接
C09D183-16 .其中所有的硅原子與氧以外的原子連接





