[發明專利]涂布用組合物

無效

• 申請號: 00812359.4
• 申請日: 2000-08-02
• 公開（公告）號: CN1372585A
• 公開（公告）日: 2002-10-02
• 發明（設計）人: 張祖依;川部和廣;熊野聰;若林肇;小西明男
• 申請（專利權）人: 日本山村硝子株式會社
• 主分類號: C09D183/04
• 分類號: C09D183/04;C09D183/06
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 任宗華

1、一種涂布用組合物，該組合物含有：

作為組分(A)的含硅氧烷低聚物的溶液，其中所說的硅氧烷低聚物具有由下式所示的平均結構單元：

???????????????????R¹_nSiO_x/2(OH)_y(OR²)_z

其中R¹表示1-3碳原子的烷基、乙烯基或苯基，當存在多個R¹時，多個R¹可以表示相同的基團或不同的基團，R²表示1-3碳原子的烷基，當存在多個R²時，多個R²可以表示相同的基團或不同的基團，n、x、y和z表示滿足以下關系的數字：0.8≤n≤1.7，2＜x＜3.2，y＞0，z＞0且y+z＝4-n-x；和

作為組分(B)的潛在酸性催化劑。

2、根據權利要求1所述的涂布用組合物，其中組分(A)中的硅氧烷低聚物是通過使用金屬螯合化合物作為催化劑將烷氧基硅烷水解和縮聚制備的。

3、根據權利要求2所述的涂布用組合物，其中金屬螯合化合物中的配位體是選自β-二酮和具有大環的聚醚的至少一種化合物。

4、根據權利要求1所述的涂布用組合物，其中組分(A)中的硅氧烷低聚物是通過將烷氧基硅烷水解和縮聚制備的，此制備過程是通過向烷氧基硅烷添加含有硅化合物的溶液作為自催化劑進行的，所說的硅化合物可溶于親水有機溶劑并且具有下式所示的平均結構單元：

??????????????????R³_aSiO_b/2(OH)_c(OR⁴)_d

其中R³表示1-3碳原子的烷基、乙烯基或苯基，當存在多個R³時，多個R³可以表示相同的基團或不同的基團，R⁴表示1-3碳原子的烷基，當存在多個R⁴時，多個R⁴可以表示相同的基團或不同的基團，a、b、c和d表示滿足以下關系的數字：0≤a＜3，0＜b＜4，c＞0，d≥0且c+d＝4-a-b。

5、根據權利要求1所述的涂布用組合物，其中組分(B)含有化合物和酸，其中所說的化合物選自下式所示的化合物和此化合物的部分水解的產物：

???????????????????M¹(Che)_p(OR⁵)_q

其中M¹表示3價或更高價的金屬，Che表示螯合劑，R⁵表示1-4碳原子烷基，并且p和q表示滿足以下關系的數字：p≥0，q≥0且P+q≥3，

所說的酸在水溶液中的酸離解常數倒數的對數值(pKa)為3或更小，并且表示為下式：

???????????????????????H_rA

其中A表示共軛堿，r表示A所示的共軛堿的電荷數的絕對值。

6、根據權利要求1所述的涂布用組合物，其中組分(B)含有具有下式所示的鍵的化合物：

?????????????????????????M¹-A

其中M¹表示3價或更高價的金屬，A表示在水溶液中的酸離解常數倒數的對數值(pKa)為3或更小的酸的共軛堿。

7、根據權利要求1所述的涂布用組合物，其中組分(B)含有選自下式所示化合物、羧酸的酯、硝酸的酯、二烷基硫酸酯、δ-內酯、酸酐、?；群突酋；衔锏闹辽僖环N化合物：

????????????????????????SiX¹_lR⁶_4-l

其中X¹表示Cl、Br、I、CH₃COO或SCN，R⁶表示氫原子或1-4碳原子烷基并且l表示數字1、2、3或4。