[發(fā)明專利]利用磁組件蝕刻薄蔭罩的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00808764.4 | 申請日： | 2000-06-07 |
| 公開（公告）號： | CN1399788A | 公開（公告）日： | 2003-02-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | C·C·埃斯萊曼;C·M·維策爾;R·E·麥科伊 | 申請（專利權(quán)）人： | 湯姆森許可公司 |
| 主分類號： | H01J9/14 | 分類號： | H01J9/14 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 法國布洛*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 利用 組件 蝕刻 薄蔭罩 方法 | ||
1.一種在薄金屬片(32，54)上蝕刻孔(44，78)以形成用于彩色顯像管的蔭罩的方法，所述金屬片在其一主層面上具有第一耐酸模版(38，56)，在其另一主層面上具有第二耐酸模版(40，58)，所述模版的至少一個在其上所述金屬片預(yù)設(shè)為孔的位置處具有開口(42，60，62)，所述方法包括下列步驟：
平面磁組件(30，64，72)通過磁力將所述金屬片(32，54)固定，所述磁組件包括支承于耐酸板(34，66，74)上的磁性層(36，68，76)，以及
移動所述磁組件通過蝕刻腔(12，48，50)，同時所述組件通過磁力將所述金屬片與之固定。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，僅所述模版中一個(38)在其上所述金屬片(32)上預(yù)設(shè)孔(44)的位置處具有開口(42)，所述金屬片的位置被設(shè)置成使所述模版的所述開口朝上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在所述蝕刻腔(12)中僅從所述金屬片的上方蝕刻所述金屬片(32)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述磁性層(36，68，76)是面積與所述金屬片(32，54)相當?shù)倪B續(xù)矩形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述磁性層(36，68，76)包括與移動通過所述蝕刻腔(12，48，50)的方向平行排列的磁條。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一(56)和第二(58)耐酸模版都在其上所述金屬片(54)上預(yù)設(shè)孔(78)的位置處具有開口(60，62)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述蝕刻腔(48)具有通過其中的絕緣帶(46)；所述金屬片(54)被設(shè)置于所述絕緣帶之下，且所述第一耐酸模版(56)朝上；所述磁組件(64)被設(shè)置于所述絕緣帶之上，且所述磁性層(68)朝下通過磁力將所述金屬片與所述絕緣帶固定；所述絕緣帶連同其上的磁組件和金屬片移動通過所述蝕刻腔；以及所述金屬片從其底面被部分蝕穿。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述被部分蝕刻的金屬片(54)被轉(zhuǎn)移至第二磁組件(72)并被其以磁力固定；所述第二磁組件轉(zhuǎn)移到所述絕緣帶(46)的上面，且所述金屬片上的所述第二耐酸模版(58)朝上；以及所述第二裝置和金屬片通過第二蝕刻腔(50)，在其中完成所述金屬片上所述孔(78)的蝕穿。
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