[發明專利]含有噁二唑環的磺酰胺衍生物無效
| 申請號: | 00806343.5 | 申請日: | 2000-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN1347411A | 公開(公告)日: | 2002-05-01 |
| 發明(設計)人: | 渡邊文彥;田村嘉則;藤井康彥 | 申請(專利權)人: | 鹽野義制藥株式會社 |
| 主分類號: | C07D271/06 | 分類號: | C07D271/06;C07D413/04;C07D413/14;A61K31/4245;A61K31/4439;A61P35/00;A61P43/00;A61P19/00;A61P9/04;A61P29/00;A61P13/12 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,楊麗琴 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含有 噁二唑環 磺酰胺 衍生物 | ||
1.式(I)的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物:其中:
R1和R2各自獨立地是氫原子、視需要取代的低級烷基、視需要取代的芳基、視需要取代的芳烷基、視需要取代的雜芳基或視需要取代的雜芳基烷基;
R3是視需要取代的低級烷基、視需要取代的環烷基、低級烷氧基、視需要取代的芳基、視需要取代的芳烷基、視需要取代的雜芳基、視需要取代的雜芳基烷基、視需要取代的非芳族雜環基、無取代或取代的氨基,或鹵素;
X是-CH=CH-、-O-,或-S-;以及
Y是-NHOH-、羥基或低級烷氧基。
2.式(II)的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物:其中:
R1、R2、X和Y如權利要求1中所定義;
R4是氫原子、視需要取代的低級烷基、環烷基、低級鏈烯基、低級炔基、羥基、低級烷氧基、巰基、低級烷硫基、鹵素、硝基、氰基、羧基、低級烷氧羰基、鹵代(低級)烷基、鹵代(低級)烷氧基、無取代或取代的氨基、無取代或有取代的氨基羰基、酰基、酰氧基、視需要取代的芳基、視需要取代的雜芳基、視需要取代的非芳族雜環基、視需要取代的芳烷基、低級烷基磺酰基、胍基、偶氮基或視需要取代的酰脲;以及
Z是-CH=CH-、-O-或-S-。
3.式(II)的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物:其中:
R1、R2、X和Y如權利要求1中所定義;
R4是氫原子、視需要取代的低級烷基、環烷基、低級鏈烯基、低級炔基、羥基、低級烷氧基、巰基、低級烷硫基、鹵素、硝基、氰基、羧基、低級烷氧羰基、鹵代(低級)烷基、鹵代(低級)烷氧基、無取代或取代的氨基、無取代或取代的氨基羰基、酰基、酰氧基、視需要取代的芳基、視需要取代的雜芳基、視需要取代的非芳族雜環基、視需要取代的芳烷基、低級烷基磺酰基、胍基、偶氮基或視需要取代的酰脲;以及
Z是-CH=CH-、-O-或-S-。
3.式(III)的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物:其中:
R1、R2、X和Y如權利要求1中所定義;以及
R5是視需要取代的烷基、視需要取代的芳烷基、視需要取代的雜芳基烷基、低級烷氧基、無取代或有取代的氨基或鹵素。
4.權利要求1~3中任何一項的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物,其中Z和X各自獨立地是-CH=CH-或-S-。
5.式(IV)的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物:其中R1、R2和Y如權利要求1中所定義,而R4如權利要求2中所定義。
6.式(V)的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物:其中R1、R2和Y如權利要求1中所定義,而R4如權利要求2中所定義。
7.式(VI)的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物:其中R1、R2和Y如權利要求1中所定義,而R4如權利要求2中所定義。
8.式(VII)的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物:其中R1、R2和Y如權利要求1中所定義,而R4如權利要求2中所定義。
9.權利要求1~8中任何一項的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物,其中Y是羥基。
10.權利要求1~9中任何一項的化合物,其光學活性物質、其藥物上可接受的鹽或其溶劑合物,其中R2是氫原子。
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