[發明專利]調節高溫－汽相－過程的方法及其應用

無效

• 申請號: 00806116.5
• 申請日: 2000-02-09
• 公開（公告）號: CN1346453A
• 公開（公告）日: 2002-04-24
• 發明（設計）人: S·施尼維斯
• 申請（專利權）人: 申克碳化技術股份有限公司
• 主分類號: G05D23/27
• 分類號: G05D23/27
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 鄭立柱,張志醒

本發明涉及到調節高溫-汽相-過程的方法，特別是CVD，LPCVD(低壓化學汽相沉積)或者CVI，借助于紅外-光譜學求出的測量曲線為基礎，這個曲線至少有對于調節過程有特征的與測量曲線背景有偏差的光譜區(最高峰)。

一般來說化學的化合物具有高特性的紅外光譜，其結構比可見光或者紫外光的光譜更細。因此當識別化學化合物時常常將紅外光譜用作為定性分析的輔助手段，此時將被測量的包括有感興趣化學化合物的光譜與所謂的參考光譜進行比較和通過形成商數/光譜除法又得到吸收光譜，吸收光譜有可能說明關于準備檢查的化學化合物。

因為化學化合物的有特征的光譜區，也就是說最高峰隨著溫度顯著地變化，因此要求對于每個溫度求出在這個溫度下進行過程的參考曲線。這同樣適合于如果紅外光譜是在不同設備上被測量和被過程的。

在US5,175,017或者JP07-90593A或者JP03-193863A中已知過程調節是借助于光譜儀數值的EDV-處理的。關于過程調節方法的概況，這也包括光譜學可以從US-Z：J.Vak.科學技術。13(4)卷1995年7月/8月，1917-1923頁中獲悉。US4,148,931建議了廢氣流中的IR-光譜學的調節過程。

以下問題以本發明為基礎，將開始敘述方式的一種方法這樣擴展，借助于紅外光譜學可以將高溫-汽相-過程，特別是CVD-，LPCVD-和CPI-過程，而且在過程期間隨著溫度變化最佳地和很快地進行調節，使汽相過程最佳化或者使廢氣中特別有害的化學化合物的量減少。

按照本發明此問題原則上是這樣解決的，直接從測量曲線上以有特征的光譜區(最高峰)的開始值和結束值為基礎計算出一條直線和將過程調節通過在直線上面的光譜區的積分或者通過確定在直線上面的光譜區的最大高度或者以光譜區與直線的其他有特征的量為基礎進行的。

其中特別考慮了在計算直線之前將測量曲線進行光整，即將噪聲顯著減小。此時光整可以用Kiniz提出的公式 A i = 1 16 ( A ( i - 2 ) + 4 A ( i - 1 ) + 6 A ( i ) + 4 A ( i + 1 ) + A ( i + 2 ) ) ]]>

進行，其中Ai是準備光整的值(也就是說目前情況下是最高峰)和A_(i-x)或者A_(i+x)表示在值A_i前面的或者后面的值。

通過按照本發明的理論有可能與隨著溫度變化的光譜背景無關持續地接收和處理紅外光譜，這樣在避免各個準備測量的溫度的參考光譜情況下進行過程調節成為可能。

因此可以在直接計算出直線以后，這等于合成背景，在直線和最高峰之間得出有特征的值的基礎上對過程的重要參數進行調節。在反應容器中的壓力，過程氣體的氣體速度，其濃度和/或在反應空間的溫度本身均屬于這些參數。