[發明專利]調節高溫－汽相－過程的方法及其應用

無效

• 申請號: 00806116.5
• 申請日: 2000-02-09
• 公開（公告）號: CN1346453A
• 公開（公告）日: 2002-04-24
• 發明（設計）人: S·施尼維斯
• 申請（專利權）人: 申克碳化技術股份有限公司
• 主分類號: G05D23/27
• 分類號: G05D23/27
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 鄭立柱,張志醒

1.調節高溫-汽相-過程的方法，特別是CVD，LPCVD或者CVI，借助于紅外-光譜學的基礎上求出的測量曲線，這至少有一個對于調節過程有特征的與測量曲線背景有偏差的光譜區(最高峰)，

其特征為，

直接以測量曲線有特征的光譜區(最高峰)的開始值和終點值為基礎計算出一條直線(合成背景)和過程的調節是通過在直線上面的光譜區的積分或者通過確定在直線上面的光譜區的最大高度或者在光譜區與直線的其他有特征的量為基礎進行的。

2.按照權利要求1的方法，

其特征為，

調節過程是通過持續地接收和處理測量曲線進行的。

3.按照權利要求1或2的方法，

其特征為，

將最高峰的在線-處理用于調整過程參數如壓力，溫度，氣體速度或者過程氣體的濃度。

4.按照至少上述權利要求之一的方法，

其特征為，

處理測量曲線不需要以相當于準備調節過程的溫度的參考測量為基礎進行的。

5.按照至少上述權利要求之一的方法，

其特征為，

將最高峰的X-開始值和Y-終點值用于計算直線，其中有益的是X＝Y。

6.按照權利要求5的方法，

其特征為，

以最高峰的5至7，特別是6的開始值和5至7，特別是6終點值為基礎計算直線。

7.按照至少上述權利要求之一的方法，

其特征為，

一條專門的直線是以每個最高峰為基礎的。

8.按照至少上述權利要求之一的方法，

其特征為，

測量曲線是通過存在于反應空間的一個元素如石墨板發射的IR-射線確定的。

9.按照權利要求8的方法，

其特征為，

將通過反應空間排氣管的元素發射的IR-射線進行測量。

10.將按照至少權利要求1至9之一的方法應用于用SiC對碳或者石墨材料表面涂層的調節CVD-過程上，其中至少以在廢氣流中被測量的HCl和/或CH₄和/或CH₃SiCl₃和/或HSiCl₃和/或SiCl₂和/或SiCl₄的一個有特征的最高峰為基礎作為調節量。

11.將按照至少權利要求1至9之一的方法應用，在調節廢物-或者垃圾焚燒過程，其中至少用對于環境有害的氣體如二惡英測量曲線的最高峰為基礎作為調節量。