[發明專利]成膜方法和成膜裝置

無效

• 申請號: 00137613.6
• 申請日: 2000-12-15
• 公開（公告）號: CN1304167A
• 公開（公告）日: 2001-07-18
• 發明（設計）人: 江間達彥;伊藤信一
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 王永剛

本發明涉及在被處理襯底上供給藥液，使液狀膜中的溶劑揮發，在該被處理襯底上進行涂敷膜成膜的成膜方法。

以往，在使用藥液的成膜處理中，廣泛采用旋涂法。近年來，伴隨環境對策削減了藥液量的使用，因而急待開發一種掃描涂敷方法，該方法旨在改善伴隨襯底大直徑化的周邊部的涂敷不勻，通過極細噴嘴，使極細噴嘴與襯底在列方向上相對移動，同時，在襯底上部以外使極細噴嘴和襯底在行方向上相對移動，在襯底整個表面上形成藥液。

至今的用掃描涂敷方法作成的涂敷膜的膜厚分布存在這樣的問題：在掃描節距方向上涂敷開始端部的膜厚相對于目標值異常增大，而在涂敷結束端部的膜厚緩緩降低。

如上所述，用掃描涂敷方法作成的涂敷膜的膜厚分布有在掃描節距方向上涂敷開始端部的膜厚相對于目標值異常增大，而在涂敷結束端部的膜厚緩緩降低的問題。

本發明的目的在于提供一種可使利用掃描涂敷方法形成的涂敷膜的膜厚分布均勻的成膜方法。

實現上述目的的本發明如下那樣構成。

(1)本發明的特征在于，包括液狀膜形成工序，對于被處理襯底，從滴下噴嘴滴下藥液，藥液按在該襯底上一定擴散量來調整且在溶劑中添加固態成分，滴下的該液體保留在該襯底上，同時使所述滴下噴嘴與所述被處理襯底相對移動，從該襯底的滴下開始部至滴下結束部滴下液體，在所述被處理襯底上形成液狀膜；和除去所述液狀膜中的溶劑形成涂敷膜的工序。在所述液狀膜的形成工序中形成表面平坦的液狀膜，或在所述液狀膜中的溶劑除去工序中，形成表面平坦的涂敷膜。

以下記載本發明的優選實施例。

對所述被處理襯底進行加熱或冷卻，以使所述被處理襯底滴下開始部的溫度比該被處理襯底的滴下結束部的溫度高。

對所述被處理襯底進行加熱或冷卻，以使所述被處理襯底的外周部的溫度從滴下開始部至滴下結束部單調降低，同時在該襯底所述外周部內側的溫度大致為一定溫度，該大致一定的溫度為比滴下開始部的溫度低，并且比滴下結束部的溫度高的溫度。

對所述被處理襯底進行加熱或冷卻，以使在所述被處理襯底的滴下開始部與滴下結束部之間的區域沒有溫度梯度。

對所述被處理襯底進行加熱或冷卻，以使在所述被處理襯底的滴下結束部的溫度梯度比該被處理襯底的滴下開始部的溫度梯度大。

對所述被處理襯底進行加熱或冷卻，以使被處理襯底兩端部的溫度比所述被處理襯底中央部的溫度低。

所述滴下開始部是被處理襯底中央部，并且滴下結束部是被處理襯底端部，所述液狀膜的形成包括下列工序：從被處理襯底中央部至一邊的被處理襯底端部滴下藥液，從被處理襯底中央部至另一邊的被處理襯底端部滴下藥液。

所述藥液是抗蝕劑、反射防止膜劑、氧化膜劑、強介質體膜劑。

本發明的成膜裝置的特征在于，配有：對所述被處理襯底供給藥液的滴下噴嘴；使所述被處理襯底和所述滴下噴嘴相對移動的驅動部；裝載所述被處理襯底、從所述被處理襯底的所述藥液滴下開始部相對于滴下結束部提供溫度分布的溫度控制部。

本發明的減壓干燥裝置，其特征在于配有：裝載被處理襯底，并從所述被處理襯底所述藥液滴下開始部相對于滴下結束部提供溫度分布的溫度控制部；內部裝有所述被處理襯底和溫度控制部，并連接到真空泵的減壓腔室。

下面記載上述二個發明的優選實施例。

所述溫度控制部包括由進行吸熱或發熱，并可獨立地控制各溫度的多個板構成的吸熱和發熱部，設置在該吸熱和發熱部上的熱擴散板，設置在該熱擴散板上、裝載所述被處理襯底并且設置熱擴散板與被處理襯底之間空隙的間隙調整臺。

所述溫度控制部包括由分別獨立控制所述被處理襯底外周部的多個區域溫度的多個外周板，獨立控制所述外周部內側的中央部溫度的中央板，設置在所述外周板和中央板上的熱擴散板，設置在該熱擴散板上、裝載所述被處理襯底并且設置熱擴散板與被處理襯底之間空隙的間隙調整臺。

所述溫度控制部包括由分別獨立控制所述被處理襯底外周部的多個區域溫度的多個外周板，設置在所述外周板和中央板上的熱擴散板，設置在該熱擴散板上、裝載所述被處理襯底并且設置熱擴散板與被處理襯底之間空隙的間隙調整臺。

按上述構成的本發明具有以下作用和效果。

因藥液滴下后的溶劑揮發時的汽化熱產生的表面內的溫度分布，產生液狀膜中溶劑揮發形成的膜的膜厚分布不均勻。由此，對于具有校正因所述汽化熱產生的表面內的溫度分布的溫度分布的被處理襯底，形成液狀膜，可抑制表面內的膜厚不均勻。

因滴下開始部的溫度比結束部的溫度高，因而可抑制膜厚不均勻。