[發明專利]收集裝置無效
| 申請號： | 00132625.2 | 申請日： | 2000-11-10 |
| 公開（公告）號： | CN1296127A | 公開（公告）日： | 2001-05-23 |
| 發明（設計）人： | 野村典彥;野路伸治 | 申請（專利權）人： | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號： | F04B37/16 | 分類號： | F04B37/16;H01L21/02 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人： | 劉興鵬 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 收集 裝置 | ||
【權利要求書】：
1．一種設置在一個排出通道中的收集裝置，其用于通過真空泵抽空一個抽空氣密密封室，所述收集裝置包括：
一個用于在其上積聚包含在排出氣體內的產物并除去該產物的收集單元，所述收集單元具有一個經過親水處理的表面。
2．如權利要求1所述的收集裝置，其特征在于，所述收集單元通過再生氣體再生。
3．如權利要求1所述的收集裝置，其特征在于，所述難于被收集的產物被所述收集單元收集。
4．如權利要求3所述的收集裝置，其特征在于，所述產物包括具有硅Si的縮聚物。
5．一種收集裝置，包括：
一種設置在一個排出通道中用于通過真空泵抽空一個抽空氣密密封室的收集室，所述收集室容納有一用于在其上積聚包含在排出氣體內的產物并除去該產物的收集單元；
一個緊鄰所述收集室設置的再生室，其用于引入再生液體使所述收集單元再生；以及
一個用于使所述收集單元在所述收集室和所述再生室之間轉換的轉換機構，所述收集單元具有經過憎水處理的表面。
6．如權利要求5所述的收集裝置，其特征在于，所述易于被收集但難于被除去的產物被所述收集單元收集。
7．如權利要求6所述的收集裝置，其特征在于，所述產物包含SiO2組分。
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