[發(fā)明專利]基板表面處理裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 00118129.7
• 申請日: 2000-06-09
• 公開（公告）號: CN1327888A
• 公開（公告）日: 2001-12-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 長瀨英男;小川修;上林清;菊川誠;寶山隆博;中川俊元;中川光元
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社平間理化研究所;長瀨產(chǎn)業(yè)株式會社
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;G03F7/16;G03F7/30;G03F7/42;H01L21/027;H01L21/304;H01L21/306
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 隗永良

本發(fā)明涉及用于對基板表面處理的裝置，詳細(xì)而言，是關(guān)于使處理過基板表面后的廢處理液與廢沖洗液完全分開，且將回收的廢處理液再調(diào)整成處理液而使處理液可循環(huán)使用的基板表面處理裝置。

在半導(dǎo)體元件、液晶顯示元件等各種電子元件制造中，首先，在基板的表面形成絕緣體層、半導(dǎo)體層、導(dǎo)電體層等的薄膜。其次，在形成的薄膜上涂覆抗蝕劑層之后，由光掩模進(jìn)行露光處理，由顯影液與腐蝕劑進(jìn)行圖案形成，再由涂覆抗蝕劑剝離液，去除基板表面殘存的抗蝕劑。再向基板表面送抵沖洗液(比如異丙醇等醇類、純水等)，去除其表面尚殘存的細(xì)微抗蝕劑粒子、處理液等。在這樣進(jìn)行電子元件制造中，要進(jìn)行多次使用處理液與沖洗液的濕處理。

在上述濕處理過程中，晶片等的基板，(1)可將其直接浸入含有處理液的處理槽內(nèi)和含有沖洗液的沖洗槽內(nèi)的方法進(jìn)行處理；(2)或?qū)⑵涔潭ㄔ谧杂尚D(zhuǎn)的晶片夾具上，由噴嘴或直射式噴嘴依次向基板表面噴送處理液與沖洗液，利用晶片夾具的旋轉(zhuǎn)處理整個基板的所謂使用旋轉(zhuǎn)器的方法，(3)將基板配置在輥式輸送機(jī)上，沿基板處理方向依次涂覆處理液與沖洗液的方法，(4)或者，將多塊基板配置于裝載盒中，用噴嘴依次向基板表面噴送處理液與沖洗液的方法來進(jìn)行處理。

但在利用上述的浸漬方法中，在處理眾多晶片時，存在處理液中成分濃度變化而不能穩(wěn)定地進(jìn)行表面處理的問題；另一方面，在使用旋轉(zhuǎn)器或輥式輸送機(jī)的情況下，又產(chǎn)生了由處理液的廢液(廢處理液)與沖洗液的廢液(廢沖洗液)相混合而成的大量的廢液的問題。

為對這樣的基板處理產(chǎn)生的廢液進(jìn)行廢處理液與廢沖洗液分離而提出了各種旋轉(zhuǎn)器方案。

比如在特開平5—190442號公報上，展示了在晶片夾具周圍設(shè)有外側(cè)杯與內(nèi)側(cè)杯的二重構(gòu)造杯的旋轉(zhuǎn)器。在這種旋轉(zhuǎn)器中，內(nèi)側(cè)杯可自由升降，借該內(nèi)側(cè)杯的上下動可分離回收很多處理液。分離回收的廢處理液更容易進(jìn)行廢液處理或再利用。

在特開平8—88168號公報上所展示的旋轉(zhuǎn)器構(gòu)成為：在晶片夾具周圍設(shè)有可自由升降的內(nèi)環(huán)，當(dāng)內(nèi)環(huán)位于上部時，其下端成了隔壁內(nèi)側(cè)；當(dāng)內(nèi)環(huán)位于下部時，其下端成了隔壁外側(cè)。

另外，在特開平5—283395號公報上展示了一種薄板凈化裝置：通過儲存容器將處理液送抵固定在自由旋轉(zhuǎn)支承器上的基板上，而將其廢處理液回收送回儲存容器。這種凈化裝置可使處理液循環(huán)使用。

另外，在特許第2602179號公報上展示了一種抗蝕劑剝離液控制裝置：處理液中使用了鏈烷醇胺和有機(jī)溶劑，用吸光光度計檢測廢處理液(抗蝕劑剝離廢液)內(nèi)的鏈烷醇胺濃度，并對不足成分進(jìn)行補(bǔ)充來再生處理液。還有，在特開平10—22261號公報上也展示了一種抗蝕劑剝離液控制裝置：處理液中使用了鏈烷醇胺、有機(jī)溶劑和純水，以吸光光度計檢測廢處理液(抗蝕劑剝離廢液)中的純水濃度，并可補(bǔ)充不足成分而對處理液進(jìn)行再生處理。這些控制裝置，由于可檢測出處理液中的特定成分而進(jìn)行補(bǔ)充，故可防止處理液變質(zhì)，可調(diào)整處理液一直保持有一定的處理性能。

上述特開平5—190442號公報所記述的旋轉(zhuǎn)器，由于僅是分離回收廢處理液，在處理液或廢處理液的反復(fù)循環(huán)中處理液內(nèi)的成分濃度有變化，有著對基板處理能力下降的問題。

另外，在特開平5—283395號公報中所記述的裝置，由于只是將廢處理液送回儲存容器，在處理液或廢處理液的反復(fù)循環(huán)中處理液內(nèi)的成分濃度有變化，也有著對基板處理能力下降的問題。

同樣，在特開平8—88168號公報中記述的旋轉(zhuǎn)器，僅是分離回收廢處理液，在處理液或廢處理液反復(fù)循環(huán)中處理液內(nèi)成分濃度有變化，同樣也有著對基板處理能力下降問題。

再有，在上述特許第2602179號公報與特開平10—22261號公報中所記述的控制裝置，適合于利用旋轉(zhuǎn)器的基板表面處理裝置的情況下，多是使用了與處理液等量或比其還要多量的沖洗液，由于廢處理液不能分離回收，則有著由于稀釋而使有效成分的濃度大幅度下降、從再生效率考慮浪費(fèi)頗多的問題。