[發明專利]基板表面處理裝置

無效

• 申請號: 00118129.7
• 申請日: 2000-06-09
• 公開（公告）號: CN1327888A
• 公開（公告）日: 2001-12-26
• 發明（設計）人: 長瀨英男;小川修;上林清;菊川誠;寶山隆博;中川俊元;中川光元
• 申請（專利權）人: 株式會社平間理化研究所;長瀨產業株式會社
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;G03F7/16;G03F7/30;G03F7/42;H01L21/027;H01L21/304;H01L21/306
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 隗永良

1.?一種基板表面處理裝置，其特征在于，它具有處理裝置、液體回收裝置、廢液貯留裝置、濃度檢測·液體補給裝置以及處理液供給裝置，其中，

處理裝置依次將處理液與沖洗液送至配置在處理臺上的基板上對基板表面進行處理；

液體回收裝置分別回收廢處理液與廢沖洗液；

廢液貯留裝置用來貯留廢處理液；

濃度檢測·液體補給裝置是由電導率計和/或吸光光度計檢測廢處理液中至少一種成分的濃度，依該檢測值補給調整處理液來調整處理液；

處理液供給裝置用來向前述處理裝置供給經調整的處理液。

2.?一種基板表面處理裝置，其特征在于，它具有處理裝置、液體回收裝置、廢液貯留·濃度檢測·液體補給裝置、以及處理液供給裝置，

其中，處理裝置依次將處理液與沖洗液送至配置在處理臺上的基板上對基板表面進行處理；

液體回收裝置分別回收廢處理液與廢沖洗液；

廢液貯留·濃度檢測·液體補給裝置用來貯留廢處理液，由電導率計和/或吸光光度計檢測廢處理液中至少一種成分的濃度，依該檢測值補給調整處理液來調整處理液；

處理液供給裝置向前述處理裝置供給經調整的處理液。

3.?按權利要求1所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，其廢液貯留裝置構成具有攪拌與過濾廢處理液的攪拌·過濾部。

4.?按權利要求2所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，其廢液貯留·濃度檢測·液體補給裝置構成具有對經過調整的處理液進行攪拌和過濾的攪拌·過濾部。

5.?按權利要求1～4中任一項所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，它構成為有廢沖洗液分離裝置連接于回收裝置，該廢沖洗液分離裝置在回收廢沖洗液時，相應于自該廢沖洗液回收開始的時間、將回收剛開始的含有異物的廢沖洗液與自回收開始經過一定時間之后的第二廢沖洗液分離開。

6.?按權利1～5中任一項所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，用處理裝置處理的基板是印刷電路基板、液晶基板、半導體基板以及等離子顯示裝置基板中的任何一種。

7.?按權利要求1～6中任一項所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，處理裝置的處理臺為可自由轉動的晶片夾具、輥式輸送機以及裝載盒中的任何一種。

8.?按權利要求7所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，處理裝置的處理臺是載置基板并可自由轉動的晶片夾具；液體回收裝置由內壁、外壁、與殼體構成，其中，內壁可在遮蔽基板周圍的位置與袒露基板周圍的位置間升降；外壁一體連設于內壁的外周，并形成可升降的杯體；殼體則包圍著由內壁與外壁形成的、可升降的該杯體。

9.?按權利要求7所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，處理裝置的處理臺是載置基板并可自由轉動的晶片夾具；液體回收裝置包括有內杯、殼體、與隔壁，其中，內杯可升降，并具有成圓周狀包圍著基板設置的內裙部與外裙部；殼體包圍著該內杯；隔壁位于固定在殼體底面的內裙部下方與外裙部下方之間；在該內杯位于基板上側的情況下，從基板流來的廢液從內裙部導向隔壁的內側；而在該內杯位于基板下側的情況下，從基板流來的廢液從外裙部導向隔壁外側。

10.?按權利要求1～5中任一項所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，在處理裝置中送抵的處理液為顯影液。

11.?按權利要求10所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，由處理裝置所送抵的顯影液是含有堿性物質與純水的液體，其中純水對堿性物質的重量比為0.04～25/100。

12.?按權利要求10或11所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，以電導率計與/(或)吸光光度計進行檢測的成分是顯影液中堿性物質與溶解抗蝕劑中的至少一種。

13.?按權利要求10、11或12所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，顯影液中所包含的堿性物質是選自下述物質中的至少一種：氫氧化鉀、氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫鈉、磷酸鈉、硅酸鈉、氫氧化四甲銨與氫氧化三甲基單乙醇銨。

14.?按權利要求1～5中任一項所記述的基板表面處理裝置，其特征在于，由處理裝置送抵的處理液是透明導電膜用腐蝕液。