[發明專利]磁記錄媒體的制造方法

無效

• 申請號: 00109215.4
• 申請日: 1994-07-19
• 公開（公告）號: CN1285585A
• 公開（公告）日: 2001-02-28
• 發明（設計）人: 高橋研
• 申請（專利權）人: 高橋研
• 主分類號: G11B5/851
• 分類號: G11B5/851
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 黃劍鋒

本發明涉及磁記錄媒體的制造方法。更詳細地來說，本發明涉及價格低廉、制造簡單、磁性優良的高密度磁記錄媒體的制造方法。本發明的磁記錄媒體最適合用于硬磁盤、軟磁盤和磁帶等。

現有的磁記錄媒體及其制造方法，已知有如日本特開昭64-70925號公報所示。

圖23是作為磁記錄媒體的一個例子來說明硬磁盤的概略圖。在圖23中，圖23(a)是磁記錄媒體的整體立體圖；圖23(b)是圖23(a)的A-A’部分的斷面圖。

基體1是在鋁基板2的表面上制作出非磁性(Ni-P)層3而形成的。而后，在該基板1上依次制作疊層；Cr底層4、強磁性金屬層5和保護層6。

非磁性(Ni-P)層3是利用電鍍法或濺射法在直徑89mm(3.5英寸)、厚度1.27mm(50密耳)的圓盤狀鋁基板2的表面上形成的，以此構成基體1。并且，在非磁性(Ni-P)層3的表面上，通過機械研究處理形成同心圓狀的紋路(以下稱為紋理)。一般來說，非磁性(Ni-P)層3的表面光潔度，即在半徑方向上測量時的平均中心線光潔度Ra，為5nm-15nm(毫微米)。而且，利用電鍍法、蒸發淀積法、濺射法在上述基體1的表面上形成Cr底層4和強磁性金屬層5(一般是Co合金屬磁性膜)，最后，為了保護強磁性金屬層5的表面，利用濺射法淀積一層由碳素等構成的保護層6。典型的各膜層厚度，非磁性(Ni-P)層3為5μm-15μm，Cr底層4為50nm-150nm，強磁性金屬層5為30-nm-100nm，保護層6為20nm-50nm。

為了提高上述媒體的記錄密度，在媒體的磁特性中尤其要提高矯頑磁力。最近，用戶的需要正在從具有矯頑磁力1200-1600奧斯特的媒體向具有矯頑磁力1800奧斯特以上的媒體轉移。在與此相適應的磁記錄媒體中，過去采用的矯頑磁力增大方法，已有以下幾種技術：

①改變強磁性金屬層的成分。

②減小強磁性金屬層的晶粒。

③從磁性上使強磁性金屬層的晶粒弧立起來。

但是，在上述現有技術中，存在以下問題：

(1)①的技術，在強磁性金屬層中包含Pt的情況下效果良好。但是，由于其成本高，而且媒體噪聲也大，所以需要進行改進。若改用其他材料，則容易受到成膜氣氛的影響，難以達到1800奧斯特以上矯頑磁力。

(2)②技術，通過減小底層的膜厚，可以減小晶粒，但是，若晶粒過小，則媒體噪聲增大，效果不好。

(3)③的技術，通過成膜后的高溫加熱處理，利用底層Cr的擴散來實現。但必須考慮成膜室內產生氣體的影響等，因而制造工藝復雜，不是好方法。

另一方面，磁記錄媒體的制造方法，現有以下幾種技術。

④提高成膜時的基體表面溫度。

⑤調整基體電位。

⑥調整成膜氣壓。

但是，在上述的現有技術中，存在以下問題。

(4)④的技術，成膜室內產生的氣體量增加，制造工藝不穩定，不是好方法。

(5)⑤的技術，由于即使改變原有基體電位也無效，異常放電也經常產生，成膜工序不穩定，所以不是好方法。

(6)⑥的技術，在可能放電的范圍內(1m乇-30m乇)，看不出比過去更好的效果。