[發(fā)明專利]通道設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 00104312.9 | 申請日: | 2000-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN1299772A | 公開(公告)日: | 2001-06-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 松本達(dá)也;齋藤忠一;小嶋和平 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社日立制作所;株式會社日立建筑系統(tǒng) |
| 主分類號: | B66B23/00 | 分類號: | B66B23/00;E04F11/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 劉立平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 通道 設(shè)備 | ||
1.一種通道設(shè)備,包括一建筑結(jié)構(gòu)和收納于對該建筑結(jié)構(gòu)規(guī)定部分進(jìn)行挖掘所形成的坑部內(nèi)至少部分的乘客運送裝置,在所述建筑結(jié)構(gòu)的上面形成有與特定區(qū)域地面鄰接、形成于高于該特定區(qū)域地面位置處的步行通道,其特征在于,
所述通道設(shè)備還包括一個形成于所述坑部下方的增強部,所述增強部可以抑止因挖掘操作對上述特定區(qū)域地面所產(chǎn)生的不利影響;
同時,所述坑部的挖掘尺寸為:坑部的挖掘深度尺寸作成H1,上述增強部的高度尺寸作成H2,從上述特定區(qū)域地表面至所述建筑結(jié)構(gòu)的上面的高度尺寸設(shè)為H3時,這些尺寸滿足下述關(guān)系:
H3=H1+H2。
2.如權(quán)利要求1所述的通道設(shè)備,其特征在于,所述特定區(qū)域地面為鋪設(shè)有鐵路路軌的地面,所述建筑結(jié)構(gòu)為鐵路車站的站臺。
3.如權(quán)利要求1或2所述的通道設(shè)備,其特征在于,所述乘客運送裝置為其下部平坦部設(shè)于所述建筑結(jié)構(gòu)上的自動扶梯。
4.如權(quán)利要求1-3之任一項所述的通道設(shè)備,其特征在于,從位于上述特定區(qū)域地面一側(cè)的所述建筑結(jié)構(gòu)的端部至所述乘客運送裝置的最短距離在2000mm以內(nèi);同時
位于從上述建筑結(jié)構(gòu)的所述端部至所述乘客運送裝置之間的所述建筑結(jié)構(gòu)的上面形成步行通道。
5.如權(quán)利要求1-4之任一項所述的通道設(shè)備,其特征在于,所述增強部的高度尺寸H2在200mm以上。
6.一種通道設(shè)備,所述通道設(shè)備系在與鐵路車站站臺連通的樓梯的鐵路軌道一側(cè)設(shè)置自動扶梯而成,其特征在于,其結(jié)構(gòu)是:在所述通道設(shè)備中,在對該站臺挖掘形成的坑部上形成坑部構(gòu)造,將自動扶梯的下部平坦部收納于所述坑部構(gòu)造內(nèi),同時,使所述坑部構(gòu)造的底部位于比鋪設(shè)著鐵路軌道的地面還上方的位置。
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