技術領域

本發明涉及OLED顯示技術，尤其是指一種OLED柔性顯示器件。

背景技術

現有的OLED柔性顯示器件(FlexibleOLED)，一般采用頂發射方式 (topemission)，傳統的頂發射方式OLED柔性顯示器件的結構如圖1所 示，從下至上依次包括：柔性基板91、陽極層92、空穴注入層(HIL) 93、空穴傳輸層(HTL)94、有機發光層(EML)95、電子傳輸層(ETL) 96、電子注入層(EIL)97、陰極層98以及覆蓋層99。

其中，先在柔性基板91上蒸鍍陽極層92，陽極層92采用ITO/Ag/ITO 薄膜，厚度為100nm～200nm；再在陽極層92上依次蒸鍍有機層：空穴注 入層(HIL)93、空穴傳輸層(HTL)94、有機發光層(EML)95、電子 傳輸層(ETL)96以及電子注入層(EIL)97；再蒸鍍陰極層98，陰極層 98采用Mg:Ag合金，厚度為15nm～25nm；最后再在陰極層98上制備一 層覆蓋層99，覆蓋層99通常采用有機材料。

為得到高純色和高效率，一般是通過調節其微腔結構(即有機層HIL、 HTL、EML、ETL、EIL中的一層或幾層)，實現高純色與高效率。然而， 傳統的OLED柔性顯示器件，普遍存在效率及壽命過低的問題，主要是 由于OLED柔性顯示器件的封裝方式為薄膜封裝，在撓曲過程中，薄膜 封裝可能會形成細小的通道，使水氧到達OLED柔性顯示器件。又因為 覆蓋層通常采用有機材料，其阻水氧能力很弱，而陰極層采用較為活潑的 Mg:Ag合金，接觸水氧后極易發生反應導致器件失效。

發明內容

有鑒于上述現有技術中OLED柔性顯示器件接觸水氧后極易發生反 應導致器件失效問題，為了解決這一問題，本發明提供了一種OLED柔 性顯示器件，包括：

柔性基板，所述柔性基板上依次制備有陰極層、有機發光單元、陽極 層以及覆蓋層，所述覆蓋層的材料為具有耐水氧性的無機材料TiO₂或 SiC。

本發明的OLED柔性顯示器件，通過將傳統的OLED結構進行倒置， 將容易氧化的陰極層直接鍍設在柔性基板上，再在陰極層上覆蓋有機發光 單元、陽極層以及覆蓋層，達到保護陰極層不受氧化的目的。另外，采用 具有耐水氧性的無機材料TiO₂或SiC作為覆蓋層的材料，可增強OLED 器件的阻水氧能力，有效提高OLED器件的壽命。并且，TiO₂和SiC的 折射率較高，可進一步提高OLED器件的光純度。

本發明OLED柔性顯示器件的進一步改進在于，所述覆蓋層的厚度 為50nm～80nm。綜合覆蓋層的折射率，將覆蓋層的厚度設置在50nm～80nm 范圍內，可進一步提高OLED器件的光純度。

本發明OLED柔性顯示器件的進一步改進在于，所述陽極層的材料 為Au、Pt或Ti。Au、Pt或Ti的穩定性好并且功函數高，較好的穩定性 可保護有機發光單元，較高的功函數可有效提高空穴的注入效率。

本發明OLED柔性顯示器件的進一步改進在于，所述陽極層的厚度 為10nm～20nm。由此將陽極層設為半反半透層(反射率與透射率均為 50％)，可提高OLED器件的微腔效應。

本發明OLED柔性顯示器件的進一步改進在于，所述陰極層的材料 為Mg。Mg的功函數較低，可有效提高電子的注入效率。

本發明OLED柔性顯示器件的進一步改進在于，所述陰極層的厚度 為100nm～200nm。綜合陰極材料的折射率，將陰極層的厚度設為 100nm～200nm范圍內，形成一個全反射陰極，可提高OLED器件的微腔 效應。

本發明OLED柔性顯示器件的進一步改進在于，所述有機發光單元 包括電子注入層、電子傳輸層、有機發光層、空穴傳輸層以及空穴注入層， 所述的電子注入層、電子傳輸層、有機發光層、空穴傳輸層以及空穴注入 層依次制備于所述陰極層上。

本發明OLED柔性顯示器件的進一步改進在于，所述空穴注入層包 括第三空穴注入層、第二空穴注入層以及第一空穴注入層，所述的第三空 穴注入層、第二空穴注入層以及第一空穴注入層依次制備于所述空穴傳輸 層上。不同的空穴注入層作用不同，第一空穴注入層的主要作用是增加注 入效率，第二空穴注入層及第三空穴注入層的主要作用為增強微腔效應。

附圖說明