[其他]用光照制造超導圖形的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 88101989 | 申請日： | 1988-04-07 |
| 公開（公告）號： | CN88101989A | 公開（公告）日： | 1988-10-26 |
| 發(fā)明（設計）人： | 山崎舜平 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社半導體能源研究所 |
| 主分類號： | H01B12/02 | 分類號： | H01B12/02;H01F5/08;H01L39/24 |
| 代理公司： | 中國專利代理有限公司 | 代理人： | 肖掬昌,肖春京 |
| 地址： | 日本神奈*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 用濺射法在襯底上淀積超導陶瓷薄膜。借助于陶瓷的低導熱率，用激光束照射陶瓷薄膜，以通過升華除去受照射的部分，從而在陶瓷薄膜上形成圖形。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 用光 制造 超導 圖形 方法 | ||
【主權(quán)項】：
1、一種制造超陶瓷圖形的方法，其特征在于，該方法包括：在一個表面上形成一超導陶瓷層，和用光照射所述陶瓷層的一部分，使該部分升華，從而除去所述陶瓷層受照射的部分。
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