[其他]用光照制造超導(dǎo)圖形的方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 88101989
• 申請(qǐng)日: 1988-04-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN88101989A
• 公開(kāi)（公告）日: 1988-10-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山崎舜平
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社半導(dǎo)體能源研究所
• 主分類(lèi)號(hào): H01B12/02
• 分類(lèi)號(hào): H01B12/02;H01F5/08;H01L39/24
• 代理公司: 中國(guó)專(zhuān)利代理有限公司
• 代理人: 肖掬昌,肖春京

1、一種制造超陶瓷圖形的方法，其特征在于，該方法包括：

在一個(gè)表面上形成一超導(dǎo)陶瓷層，和

用光照射所述陶瓷層的一部分，使該部分升華，從而除去所述陶瓷層受照射的部分。

2、如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述超導(dǎo)陶瓷層系用濺射法淀積在所述表面上。

3、如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述光為激光束。

4、如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述光為一系列激光束脈沖。

5、如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述脈沖系沿該陶瓷層規(guī)定好的路線照射到所述陶瓷層的一部分。

6、如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面是一個(gè)圓柱體的表面，且所述光系照射到所述表面上規(guī)定好的螺旋形線上，以便形成超導(dǎo)線圈。

7、如權(quán)利要求6所示的方法，其特征在于，所述圓柱體在照射工序過(guò)程中系繞其軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)所述光的照射位置只在相對(duì)于所述圓柱體的軸向移動(dòng)。

8、如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面系由熱膨脹系數(shù)為所述陶瓷薄膜的50%-150%的材料制成。

9、如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述襯底由氧化釔穩(wěn)定過(guò)的鋯石制成。