[其他]一種除去沉積在化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器反應(yīng)室內(nèi)的不須要的碳產(chǎn)物的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 88101465 | 申請(qǐng)日： | 1988-02-24 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN88101465A | 公開（公告）日： | 1988-10-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 山崎舜平 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 株式會(huì)社半導(dǎo)體能源研究所 |
| 主分類號(hào)： | C23C16/26 | 分類號(hào)： | C23C16/26;C23C16/56 |
| 代理公司： | 中國專利代理有限公司 | 代理人： | 楊麗琴 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 沉積碳膜后清理化學(xué)氣相反應(yīng)器內(nèi)部。當(dāng)結(jié)晶的碳或象金剛石的碳在反應(yīng)室內(nèi)形成時(shí)，在反應(yīng)室內(nèi)有不需要的沉積物。利用氧氣或氧化合物氣體而不是利用對(duì)反應(yīng)器內(nèi)部有損壞作用的氟或氟化合物氣體，通過侵蝕，將粘性的碳沉積除去。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 除去 沉積 化學(xué) 反應(yīng)器 反應(yīng) 室內(nèi) 須要 產(chǎn)物 方法 | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
1、一種通過化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器在基片上完成沉積碳膜后，除去該反應(yīng)器反應(yīng)室內(nèi)壁上的碳沉積的侵蝕方法，所述方法的步驟是：抽空所述的反應(yīng)室；向所述的反應(yīng)室通入作為侵蝕氣體的氧氣或氧化合物氣體，和向所述的反應(yīng)室通入電磁能，以產(chǎn)生從所述的侵蝕氣體中衍生出的等離子氣。
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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