[其他]徽波增強式化學汽相淀積法及設備無效
| 申請號: | 87107779 | 申請日: | 1987-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN87107779A | 公開(公告)日: | 1988-05-25 |
| 發明(設計)人: | 犬島喬;廣瀨直樹;山崎舜平;田代衛 | 申請(專利權)人: | 株式會社半導體能源研究所 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 肖掬昌,何關元 |
| 地址: | 日本神奈*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 本說明書敘述了一種新型的化學汽相淀積法。這里化學汽相反應的主要的激發動力不是電子回旋共振(這時的電子作為獨立粒子能夠運動而不相互作用)而是混合回旋共振。在這種新提出的共振中,共振空間較大,因而用此新方法可將金剛石之類的高熔點物質淀積成薄膜狀。 | ||
| 搜索關鍵詞: | 增強 化學 汽相淀積法 設備 | ||
【主權項】:
1、一種微波增強式化學汽相淀積設備,其特征在于,該設備包括:-反應室;-供氣裝置,用以將反應氣體輸入所述反應室中;-微波發生器,與所述反應室連通,用以將微波發射入界定在所述反應室中的一共振區間內;-磁鐵,用以在所述共振區間內感應出磁場;和夾持裝置,用以將待涂敷的物體夾持在所述共振區間的一個區域中,所述微波的電場的近似最大值就在所述區域中。
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C23 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





