[其他]濺射源用的充氣器無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 87105700 | 申請日： | 1987-08-18 |
| 公開（公告）號： | CN87105700A | 公開（公告）日： | 1988-03-30 |
| 發(fā)明（設計）人： | 王德苗;任高潮;陳抗生 | 申請（專利權）人： | 浙江大學 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 浙江大學專利代理事務所 | 代理人： | 連壽金 |
| 地址： | 浙江省杭*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 一種能向陰極靶[8]靶面和工件表面分別噴射工作氣體和活性氣體的磁控濺射源用的充氣器，采用這種充氣器能使靶面免受污染，工作氣體利用率提高40％，薄膜中雜質含量降低20％，且不產(chǎn)生陰影。同通混合氣體的方案相比，濺射速率提高80％以上。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 濺射 充氣 | ||
【主權項】：
1、一種能向陰極靶表面和工件表面分別噴射工作氣體和活性氣體的磁控濺射源用的充氣器，其特征在于構成該充氣器的工作氣體充氣器A和活性氣體充氣器B安裝在濺射頭底盤[6]上，分別向靶面和工件[16]表面噴射工作氣體和活性氣體。
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- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
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