[其他]多室淀積系統(tǒng)無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 87104355 | 申請(qǐng)日： | 1987-06-22 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN87104355A | 公開（公告）日： | 1988-02-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 里查德·L·雅各布森;弗蘭克·R·杰弗里;羅格·維斯特伯格 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 明尼蘇達(dá)采礦和制造公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C16/54 | 分類號(hào)： | C23C16/54;C23C16/50 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部 | 代理人： | 薛明祖 |
| 地址： | 美國明*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 一種在一個(gè)大真空室內(nèi)將不同涂層同時(shí)淀積到一薄帶材上的淀積系統(tǒng)已經(jīng)公開。該系統(tǒng)具有多個(gè)淀積室，在這些淀積室內(nèi)，當(dāng)帶材自送料輥移至終端的被淀積帶材的卷緊輥的過程中被淀積上不同的涂層。大真空室內(nèi)的各淀積室具有各自的密封，最大限度地防止相鄰淀積室中含有各種摻雜物的氣體發(fā)生反擴(kuò)散。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 多室淀積 系統(tǒng) | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
1、一種將不同成份的多層涂膜淀積在基板上的真空淀積設(shè)備。該設(shè)備包括：一個(gè)能承受相差一個(gè)大氣壓的基本真空室；幾個(gè)安裝在上述真空室內(nèi)的淀積室，各噴鍍室包括一塊底板和幾個(gè)側(cè)壁構(gòu)成的一個(gè)矩形開口空間，一個(gè)與側(cè)壁上沿相吻合的臺(tái)板，與兩對(duì)應(yīng)側(cè)壁相連的框架分別構(gòu)成一個(gè)入口槽和一個(gè)出口槽，通過出入口槽，帶材可穿入或穿出淀積室；與真空室相連泵用來將真空室和相應(yīng)的淀積室抽真空。
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- 專利分類
C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
