[其他]超聲清洗方法和裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 87103659 | 申請日： | 1987-05-16 |
| 公開（公告）號： | CN87103659A | 公開（公告）日： | 1987-11-25 |
| 發(fā)明（設計）人： | 查爾斯·里德·懷特 | 申請（專利權）人： | 伊斯曼柯達公司 |
| 主分類號： | B08B3/12 | 分類號： | B08B3/12 |
| 代理公司： | 中國專利代理有限公司 | 代理人： | 肖掬昌,肖春京 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | 用以在一液槽內(nèi)清洗半導體圓片的一種方法和裝置，包括將一液態(tài)媒質(zhì)例如超高純水供給液槽的裝置，以及一個配置在液槽內(nèi)的電聲換能器。在以大約20千赫至90千赫范圍內(nèi)的一個能源將能量供給換能器，以便在液槽內(nèi)形成一密集的界限分明的強成穴區(qū)，使工件沿通過換能器的第一方向流過該強成穴區(qū)。超高純水沿著與工件移過換能器的相反的方向流過換能器和工件。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 超聲 清洗 方法 裝置 | ||
【主權項】：
1.在一液槽內(nèi)清洗一工件的方法，其特征在于它包括這些工序：將一工件放置在上述液槽內(nèi)第一位置的一支承裝置上，從而使該工件至少一個表面受到輻照；將一定量的一種液態(tài)媒質(zhì)供給上述液槽；將一個電聲換能器配置在上述液槽內(nèi)的第二位置上；以頻率大約為20千赫至90千赫范圍內(nèi)的能源將能量供給上述換能器，以便產(chǎn)生的超聲能量以密集的，界限分明的成穴區(qū)形式射入上述液槽；產(chǎn)生上述換能器和上述工件之間的相對移動，從而使上述工件穿過上述強成穴區(qū)；以及使流經(jīng)上述工件的上述液態(tài)媒質(zhì)沿著和換能器相對于工件移動相同的方向移動，從而使從上述工件表面除去的粒子沿上述液態(tài)媒質(zhì)流過工件的方向移過工件。
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