[其他]超聲清洗方法和裝置

無效

• 申請號: 87103659
• 申請日: 1987-05-16
• 公開（公告）號: CN87103659A
• 公開（公告）日: 1987-11-25
• 發明（設計）人: 查爾斯·里德·懷特
• 申請（專利權）人: 伊斯曼柯達公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 肖掬昌,肖春京

1.在一液槽內清洗一工件的方法，其特征在于它包括這些工序：

將一工件放置在上述液槽內第一位置的一支承裝置上，從而使該工件至少一個表面受到輻照；

將一定量的一種液態媒質供給上述液槽；

將一個電聲換能器配置在上述液槽內的第二位置上；

以頻率大約為20千赫至90千赫范圍內的能源將能量供給上述換能器，以便產生的超聲能量以密集的，界限分明的成穴區形式射入上述液槽；

產生上述換能器和上述工件之間的相對移動，從而使上述工件穿過上述強成穴區；以及

使流經上述工件的上述液態媒質沿著和換能器相對于工件移動相同的方向移動，從而使從上述工件表面除去的粒子沿上述液態媒質流過工件的方向移過工件。

2.根據權利要求1的發明，其特征在于：上述換能器是固定的，而工件移過該換能器。

3.根據權利要求1的發明，其特征在于：上述工件是固定的，而換能器移過該工件。

4.根據權利要求1的發明，其特征在于：包括將超高純水供給上述液槽的工序。

5.根據權利要求1的發明，其特征在于：該能源以70至120瓦/英寸²的功率密度提供給上述換能器的輻射面。

6.根據權利要求1的發明，其特征在于：包括使上述工件的上述一個表面以大約1/8英寸至3/4英寸的一段距離且在上述強成穴區內移過上述換能器的輻射面的工序。

7.在一液槽內清洗半導體圓片的方法，其特征在于包括這些工序：

將一半導體圓片放置在第一位置的支承裝置上，從而使該圓片至少一個表面受到輻照；????

將圓片浸入上述液槽內；

將一定量的超高純水供給上述液槽；

將一個電聲換能器配置在上述液槽內的第二位置上；

用一個頻率大約為20千赫至90千赫范圍內的能源將能量供給上述換能器以給上述換能器輻射面提供70至100瓦/英寸²的功率密度其產生的超聲波能量以一密集的界限分明的強成穴區的形式射入上述液槽內；

產生上述換能器和上述圓片之間的相對移動，從而使上述圓片以離開上述輻射面大約1/8英寸至3/4英寸的一段距離穿過上述強成穴區；

使流經上述圓片的上述超高純水沿著與該換能器相對于該圓片移動的相同的方向流動，從而使從上述圓片的表面除去的粒子沿著液態媒質流過圓片的方向移過圓片；以及

將上述圓從上述液槽移走。

8.在一液槽內清洗半導體圓片的方法，其特征在于包括這些工序：

將一半導體圓片放置在第一位置的支承裝置上，從而使圓片的至少一個表面受到輻照；

將圓片浸入上述液槽；

將一定量的超高純水供給上述液槽；

將一個電聲換能器配置在上述液槽內的第二位置上，其輻射面被配置成與上述圓片的表面成一角度，并朝向第一位置；

用一個頻率大約20千赫至90千赫的范圍內的能源將能量供給上述換能器以給上述換能器的輻射面提供70至120瓦/英寸²的功率密度，其產生的超聲波能量，用一密集的界限分明的強成穴區的形式射入上述液槽內；

使上述圓片從上述第一位置沿第一方向移過上述換能器，上述一個表面以離開上述換能器輻射面大約1/8英寸至大約3/4英寸的一段距離且在上述強成穴區內朝向上述輻射面；

使上述無湍流的超高純水沿著與上述圓片移過上述換能器相反的方向流過上述換能器和上述圓片；以及

將上述圓片從上述液槽移走。