[其他]受到放射性污染材料的去污過程無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 87100443 | 申請(qǐng)日： | 1987-01-26 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN87100443B | 公開（公告）日： | 1988-11-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 格德弗里德·萊門斯 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 格德弗里德·萊門斯 |
| 主分類號(hào)： | G21F9/30 | 分類號(hào)： | G21F9/30 |
| 代理公司： | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部 | 代理人： | 羅英銘,陳季壯 |
| 地址： | 比利時(shí)布拉斯*** | 國(guó)省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本發(fā)明的過程主要包括依次使受到污染的材料表面與碳酸鈉溶液接觸一段時(shí)間，使受到污染的材料表面與稀硝酸溶液接觸，同時(shí)加高錳酸鉀，再使受到污染的材料表面與乙二酸(COOH-COOH·2HO)接觸，最后清洗和干燥所述的材料。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 受到 放射性 污染 材料 去污 過程 | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
1.受到放射性污染的材料的去污過程：該過程包括：依次使受到污染的材料表面與碳酸鈉溶液接觸一段時(shí)間，使受到污染的材料表面與含高錳酸鉀的稀硝酸溶液接觸，使受到污染的表面與乙二酸(COOH-COOH·2HO)溶液接觸一段時(shí)間，最后清洗和干燥所述的材料，其特征在于所述碳酸鈉溶液應(yīng)預(yù)先加熱，所述稀硝酸溶液的溫度約為70℃，所說乙二酸溶液也應(yīng)加熱。
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