[其他]受到放射性污染材料的去污過程

無效

• 申請號: 87100443
• 申請日: 1987-01-26
• 公開（公告）號: CN87100443B
• 公開（公告）日: 1988-11-16
• 發明（設計）人: 格德弗里德·萊門斯
• 申請（專利權）人: 格德弗里德·萊門斯
• 主分類號: G21F9/30
• 分類號: G21F9/30
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利代理部
• 代理人: 羅英銘,陳季壯

1、受到放射性污染的材料的去污過程;該過程包括：依次使受到污染的材料表面與碳酸鈉溶液接觸一段時間，使受到污染的材料表面與含高錳酸鉀的稀硝酸溶液接觸，使受到污染的表面與乙二酸（COOH-COOH·2HO）溶液接觸一段時間，最后清洗和干燥所述的材料，其特征在于所述碳酸鈉溶液應預先加熱，所述稀硝酸溶液的溫度約為70℃，所說乙二酸溶液也應加熱。

2、根據權利要求1所述的過程，其特征在于所用的碳酸鈉溶液溫度超過80℃。

3、根據權利要求1所述的過程，其特征在于，受污染的材料表面與碳酸鈉溶液接觸時間是在5～30分鐘范圍內。

4、根據權利要求1所述的過程，其特征在于，采用的稀硝酸的溫度約為70℃。

5、根據權利要求1所述的過程，其特征在于，高錳酸鉀是以每1000升1公斤的比例加入的。

6、根據權利要求1所述的過程，其特征在于，高錳酸鉀是以粒狀形式加到稀硝酸中的。

7、根據權利要求1所述的過程，其特征在于，如果用乙二酸溶液處理以后，仍存在較大的污染，則兩種處理步驟至少可以重復一次，一種是用稀硝酸，另一種是用乙二酸，而且

當重復上述兩種步驟時，至少增大高錳酸鉀的濃度。

8、根據權利要求1所述的過程，其特征在于，處理污染的材料所得到的任何殘存物可用這樣的方式進行混合，使產生的混合物實際上是中性的（pH＝7）。