[其他]用于表面材料合成的真空反應室無效
| 申請號： | 86204249 | 申請日： | 1986-06-23 |
| 公開（公告）號： | CN86204249U | 公開（公告）日： | 1987-04-15 |
| 發明（設計）人： | 張弋飛 | 申請（專利權）人： | 張弋飛 |
| 主分類號： | C23C8/36 | 分類號： | C23C8/36;C23C14/38 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 包冠乾 |
| 地址： | 北京市西*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于表面材料合成的真空反應室裝置，它可用來對工件表面進行滲非金屬元素或滲金屬等操作。該真空室壁不采用通冷卻水結構，而采用充填絕熱材料層的結構，反應室內設有熱交換器，風扇及滅弧電阻。反應室為分體式結構，由固定室和活動室組成。活動室可以沿導軌運動而與固定室分開或合緊。該真空反應室熱能損失小、升溫快。冷卻時能加快冷卻速度。提高工作效率，并且易于進行裝卸工件的操作以及易于進行檢修和保養。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 用于 表面 材料 合成 真空 反應 | ||
【主權項】：
1、用于表面材料合成的真空反應室，其特征在于，反應室壁帶有絕熱材料層，反應室內設有熱交換器及風扇。
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