[其他]沉積膜形成方法無效
| 申請號： | 86108874 | 申請日： | 1986-12-25 |
| 公開（公告）號： | CN86108874A | 公開（公告）日： | 1987-09-09 |
| 發明（設計）人： | 齊藤惠志;廣岡政昭;半那純一;清水勇 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | C23C16/00 | 分類號： | C23C16/00;C23C16/24;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 吳大建,全菁 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 沉積膜形成方法，其中通過各自獨立地反應區通入形成沉積膜的氣態原料和對所述原料有氧化作用的氣態鹵素氧化劑以便按化學反應形成沉積膜。該方法包括，在活化區預先活化可形成能帶寬控制劑的氣態物質(B)以形成活化體；然后將所述的活化體通入反應區以便在處于成膜區的基體上形成可控制能帶寬的沉積膜。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 沉積 形成 方法 | ||
【主權項】：
1、沉積膜形成方法，其中通過各自獨立地向反應區通入形成沉積膜的氣態原料和對所述原料有氧化作用的氣態囟素氧化劑以便按化學反應形成沉積膜，該方法包括，在活化區預先活化可形成能帶寬控制劑的氣態物質(B)以形成活化體，然后將所述的活化體通入反應區以便在處于成膜區的基體上形成可控制能帶寬的沉積膜。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
