[其他]生產涂層玻璃的方法及其制品無效
| 申請號： | 86107009 | 申請日： | 1986-10-06 |
| 公開（公告）號： | CN86107009A | 公開（公告）日： | 1987-06-17 |
| 發明（設計）人： | 杰勒德·A·卡利斯;約翰·F·康諾爾;埃伯哈德·R·阿爾巴奇;理查德·A·赫林頓 | 申請（專利權）人： | 利比-歐文斯-福特公司 |
| 主分類號： | C03C17/30 | 分類號： | C03C17/30 |
| 代理公司： | 中國專利代理有限公司 | 代理人： | 李若娟 |
| 地址： | 美國俄*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | 生產涂層玻璃制品的連續化學汽相沉積法。玻璃基片趁熱連續推進第一和第二處理點。第一處理點附近保持非氧化氣氛，而在第二處理點的附近保持氧化氣氛。含有硅烷，如SiH4的非氧化氣體，從第一處理點直接朝向玻璃表面，形成硅涂層。含氣態金屬化合物的氧化氣體，從第二處理點直接朝向制品表面的硅涂層。可控制工藝，使含硅烷氣體在玻璃表面形成反射的硅涂層，充分氧化后含金屬化合物的氧化氣體形成金屬氧化物涂層，使金屬氧化物層基本無針孔。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 生產 涂層 玻璃 方法 及其 制品 | ||
【主權項】：
1、一種生產涂層玻璃制品的連續的化學汽相沉積方法，所說的方法包括制品連續推進的步驟，趁熱經過第一和第二相繼的處理點，其中至少第一個處理點是封閉區域，在設有第一處理點的封閉區域內保持非氧化氣氛，第二處理點周圍以及相鄰的玻璃保持氧化氣氛，含有硅烷的非氧化氣體從第一處理點直接朝向玻璃表面，以便在該表面形成硅涂層，含有汽態金屬化合物的氧化氣體，從第二處理點直接朝向玻璃制品的涂層表面，控制玻璃制品的溫度，在第二處理點周圍的氧化氣氛中的停留時間，第一處理點的非氧化氣體的組成和第二處理點的氧化氣體的組成，以便使含有硅烷的氣體在玻璃表面形成反射的硅涂層，含有金屬的氧化氣體形成金屬氧化物涂層，并且制品在到達第二處理點之前進行氧化，而在硅層上面形成足夠厚度的氧化硅層，致使金屬氧化物層基本上沒有針孔。
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