[其他]生產涂層玻璃的方法及其制品

無效

• 申請號: 86107009
• 申請日: 1986-10-06
• 公開（公告）號: CN86107009A
• 公開（公告）日: 1987-06-17
• 發明（設計）人: 杰勒德·A·卡利斯;約翰·F·康諾爾;埃伯哈德·R·阿爾巴奇;理查德·A·赫林頓
• 申請（專利權）人: 利比-歐文斯-福特公司
• 主分類號: C03C17/30
• 分類號: C03C17/30
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 李若娟

本發明涉及生產涂層玻璃制品，尤其是生產涂層建筑玻璃的連續的，化學汽相沉積方法，以及這樣生產的涂層制品。更詳細地說，本發明涉及到這樣的方法，通過含有單硅烷（SiH₄）的非氧化氣體的處理而形成硅層，并通過硅層表面的氧化形成氧化硅層，然后在氧化硅層上面，通過含有四甲基錫的氧化氣體的處理，形成氧化錫層的方法，而生產具有涂敷層的玻璃制品，本發明還包括用稀氫氟酸清洗該涂層玻璃制品的步驟，以便在其后的鋼化過程中，防止涂層上面形成薄膜。

“Kirkbride”等人，在美國專利4，019，887中描述了通過用含有單硅烷的非氧化氣體連續的化學處理而形成涂有硅層的建筑玻璃的生產。“Kirkbride”等人敘述的方法，適合于實現本發明方法的一個步驟，即實現涂在玻璃制品上的硅層形成的步驟。

“Landau”在美國專利4，188，444中敘述了，對在“Kirkbride”等人的，含有單硅烷的非氧化氣體中，加入乙烯，得到了好結果，這樣使用乙烯使得硅涂層明顯改進了耐堿性。

“Gordon”在美國專利4，187，336中敘述了，用四甲基錫和其他的有機錫化合物，通過化學汽相沉積法，在玻璃上面產生氧化錫涂層。

涂有硅層表面的玻璃制品的生產是由Kirkbride等人的方法生產的。而在硅層上面再沉積金屬氧化物涂層的玻璃制品的生產方法是由Donley在美國專利4100330中揭示的。Donley揭示的金屬氧化物涂層，可以通過玻璃制品的噴鍍方法形成，而在該玻璃制品上已涂敷有Kirkbride等人的硅涂層，噴鍍是用乙酰丙酮鎳，二異丙基二乙酰丙酮鈦，二丁基二乙酸錫在合適溶劑中的溶液，或者乙酰丙酮鈷，乙酰丙酮鐵，乙酰丙酮鉻以及乙酰丙酮鎳之中的二種或二種以上的在合適溶劑中的溶液。根據Donley的試驗數據，通過用氧化鈰和浮石二物，在20次沖擊磨耗試驗，和在熱的氫氧化鈉溶液中浸漬30秒，都可以除掉Kirkbride等人的硅涂層，而金屬涂層在進行磨耗試驗或者在熱的氫氧化鈉溶液中浸漬試驗都不會被除掉，該金屬涂層，有時在玻璃表面直接涂敷，有時在上述Kirkbride等人的硅涂層上面再涂敷的。

大部分建筑玻璃是由浮法玻璃工藝生產的，部分示于Kirkbride等人的圖示中。該工藝包括，將玻璃鑄入到適當的封閉的熔融錫槽上面，充分冷卻后，將玻璃輸送到一些與錫槽相配的滾筒上，并冷卻在滾筒上前進的玻璃，先經過退火窯，而最后完全暴露在外界條件，在工藝的浮拋區要保持氧化氣氛，在與錫槽接觸時要防止氧化，而在退火窯中保持空氣的氣氛。

應該懂得，當要求把玻璃第一次用硅，第二次用氧化錫或其他的氧化物涂敷的時候，如果與其浮法玻璃工藝生產相結合則會有好處的。正如Kirkbride等人方法所述，在工藝過程的浮拋區涂敷硅涂層處理玻璃正處于合適的溫度;同樣，在退火窯某些含有空氣的部位，對用含有四甲基錫的氧化氣體處理表面而在硅層上面形成氧化錫涂層來說玻璃也處在合適的溫度。然而，當氣體分配器設置在浮法玻璃作業線上處理玻璃的時候，第一次的處理溫度大約為1170°F（632℃）并用非氧化氣氛，而第二次處理溫度大約為1125°F（607℃），并用空氣。作業線上的玻璃，第一次是用由86%（容量）的氮氣，4%（容量）的乙烯和10%（容量）單硅烷組成的氣體處理，而第二次是用由99%（容量）空氣和1%（容量）的四甲基錫組成的氣體進行處理，在玻璃上就相繼形成硅和氧化錫涂層，但是，由于具有所謂的“針孔”缺陷，所得的涂層玻璃外觀并不美觀?？偟膩碚f，涂層玻璃具有青銅色的透射色和銀白反射色，但通常有許多圓點，針孔，而這些地方有較差的透射色。

本發明是基于以下的發現：以浮法玻璃工藝進行生產的玻璃，在澆鑄后，可以立即進行第一次用硅，第二次用錫或者其他氧化物涂層，而且待前面涂敷的硅層充分氧化之后再進行處理以形成錫或者其他氧化物涂層。

附圖的簡單說明

單個附圖是用于實踐浮法玻璃工藝設備的縱向剖面示意圖，此外還包括能夠實踐本發明方法的，合適地定位的二個氣體分配器。

較好的實施方案的說明

參照附圖，實踐浮法玻璃工藝的設備，通常以10表示，包括浮拋段11，退火窯12，以及冷卻段13，浮拋段11具有底部14，該底部包括錫槽15，弦頂16，側壁（圖中沒有表示）和壁17，以形成封閉，這樣，在封閉區域18內保持非氧化氣氛，以防止錫槽15的氧化，如下面進一步詳述。