[其他]高分子薄膜駐極體的制造方法無效
| 申請號： | 86102516 | 申請日： | 1986-09-22 |
| 公開（公告）號： | CN86102516A | 公開（公告）日： | 1987-03-11 |
| 發明（設計）人： | 王壽泰;張國光;張和康 | 申請（專利權）人： | 上海交通大學 |
| 主分類號： | A61N1/00 | 分類號： | A61N1/00 |
| 代理公司： | 上海交通大學專利事務所 | 代理人： | 羅蔭培 |
| 地址： | 上海市華山*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | 高分子薄膜駐極體的制造方法，它屬于一種高分子功能材料的制造方法。它是采用射頻低溫等離子體注入工藝，這種方法的注入工藝設備簡單，價格便宜，操作維護方便，所得到的高分子薄膜駐極體的兩面基本上為負電位，與人體皮膚接觸后的表面靜電電位衰減較慢，可用來治療骨折及加速骨生長。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 高分子 薄膜 駐極體 制造 方法 | ||
【主權項】：
1、一種高分子薄膜駐極體的制造方法，本發明的特征是采用射頻低溫等離子體注入工藝來制造。
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