[其他]強光離子滲金屬裝制及其方法無效
| 申請號： | 85106757 | 申請日： | 1985-09-10 |
| 公開（公告）號： | CN85106757A | 公開（公告）日： | 1987-04-15 |
| 發明（設計）人： | 李仲君 | 申請（專利權）人： | 電子工業部工藝研究所 |
| 主分類號： | C23C10/06 | 分類號： | C23C10/06;C23C14/38 |
| 代理公司： | 電子工業部專利服務中心 | 代理人： | 邱應鳳,徐嫻 |
| 地址： | 山西省太原市*** | 國省代碼： | 山西;14 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本發明公開了一種利用二次著火現象所設計的強光離子滲金屬裝置及其方法。滲層深度明顯加深，滲鉬層達285微米，滲入金屬種類不受限制，陰極座上有一個用滲入金屬做成的桶形靶，內放工件，工件周圍放置滲入金屬碎片。在適當條件下，桶形靶內電離產生“雪崩”，形成高能量強光離子區，完成強光離子滲金屬過程，該區溫度可達1700℃，也可以作為科學研究用新穎的高溫能源。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 強光 離子 金屬 及其 方法 | ||
【主權項】：
1、一種離子滲金屬裝置，由真空室、直流電壓源和相應電極組成，其特征是：在陰極座(5)上有一個能產生高能量離子區、一面開口的容器一桶形靶(4)，桶形靶(4)與陰極座(5)同電位。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C10-00 金屬材料表面中僅滲入金屬元素或硅的固滲
C23C10-02 .被覆材料的預處理
C23C10-04 .局部表面上的擴散處理，例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用氣體的
C23C10-18 .使用液體，例如鹽浴、懸浮液的
C23C10-28 .使用固體，例如粉末、膏劑的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C10-00 金屬材料表面中僅滲入金屬元素或硅的固滲
C23C10-02 .被覆材料的預處理
C23C10-04 .局部表面上的擴散處理，例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用氣體的
C23C10-18 .使用液體，例如鹽浴、懸浮液的
C23C10-28 .使用固體，例如粉末、膏劑的
