[其他]濕敏元件及其制造法無效
| 申請號: | 85104273 | 申請日: | 1985-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN85104273A | 公開(公告)日: | 1986-12-03 |
| 發明(設計)人: | 岡正太郎;田原修;小林潤也 | 申請(專利權)人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | H01L41/08 | 分類號: | H01L41/08;G01N27/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 杜日新 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 本發明涉及濕敏元件及其制造法,本發明濕敏元件是在固體基材上的一對電極間或至少一個電極上形成疏水性有機化合物等離子體聚合高分子層,并且在其上附著含有氨基的高分子層,由氨基引入銨鹽型親水基團而構成,本發明濕敏元件具有響應性和耐久性優良的效果。 | ||
| 搜索關鍵詞: | 元件 及其 制造 | ||
【主權項】:
1、濕敏元件,其特征為,在濕敏元件用的固體基材上一對電極間或至少一個電極上形成感濕膜的濕敏元件中,上述感濕膜的基本結構為,由疏水性有機化合物的等離子體聚合高分子層形成內部層和由有機胺化合物的等離子體聚合在其上形成含有氨基的高分子層組成表面層,并且在上述表面層含有氨基的高分子層中,引入銨鹽型親水基取代氨基。
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社島津制作所,未經株式會社島津制作所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/patent/85104273/,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:最佳鉆巖方法
- 下一篇:永磁能動力與準直流發電兩用裝置





