[其他]光譜選擇性吸收黑鋁涂層及制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85100509 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100509A | 公開（公告）日： | 1986-08-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 胡行方;秦淑引;田靜芬;胡美鳳 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號： | C23C14/14 | 分類號： | C23C14/14;F24J2/48 |
| 代理公司： | 中國科學(xué)院上海專利事務(wù)所 | 代理人： | 潘振甦 |
| 地址： | 上海市長寧*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本發(fā)明屬于涂層材料和制造方法。通過采用真空鍍膜工藝，控制蒸鍍時(shí)的氣氛和壓力，制備一種具有光譜選擇特性好的黑鋁鍍層。該涂層的太陽能吸收率大于0.87，紅外熱發(fā)射率大于0.13且可適金屬、玻璃及有機(jī)材料等多種類型的底材，具有制備工藝簡單，可實(shí)現(xiàn)大面積連續(xù)生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)，是一種有廣泛應(yīng)用前景的太陽能光熱利用材料。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光譜 選擇性 吸收 涂層 制造 方法 | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
1、一種光譜選擇吸收特性好的涂層材料，其特征在于主要是金屬鋁組成的黑鋁涂層。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
