[其他]光譜選擇性吸收黑鋁涂層及制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85100509 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100509A | 公開（公告）日： | 1986-08-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 胡行方;秦淑引;田靜芬;胡美鳳 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號： | C23C14/14 | 分類號： | C23C14/14;F24J2/48 |
| 代理公司： | 中國科學院上海專利事務所 | 代理人： | 潘振甦 |
| 地址： | 上海市長寧*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光譜 選擇性 吸收 涂層 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種光譜選擇吸收特性好的涂層材料，其特征在于主要是金屬鋁組成的黑鋁涂層。
2、按權利要求1所述的涂層材料生產方法，包括控制蒸鍍時的氣氛和壓力，其特征在于氣氛一般為空氣，鋁蒸氣分壓為（7.5～9）×10-3乇。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
