[其他]微型箔式電阻應(yīng)變計(jì)的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85100133 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100133B | 公開（公告）日： | 1988-03-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 馮仁賢;揚(yáng)風(fēng)河;陸符聰 | 申請（專利權(quán)）人： | 清華大學(xué) |
| 主分類號： | H05K3/06 | 分類號： | H05K3/06;G01B7/20;H01C17/00 |
| 代理公司： | 清華大學(xué)專利事務(wù)所 | 代理人： | 張秀珍 |
| 地址： | 北京市海*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | “微型箔式電陽應(yīng)變計(jì)的制造方法”，屬于計(jì)量、測試元件制造技術(shù)。本方法采用正性光刻膠光刻敏感柵，曝光光源為球形汞燈，采用0.8～12％氫氧化鉀溶液作顯影液，用離心法制基底膜，用濃度為55°～00°(波美)三氯化鐵腐蝕液，一次腐蝕成型。采用此制造方法，能夠制造絲柵寬度小于10微米的康銅敏感柵，基底面積為2mm2，敏感柵面積為0.5mm2，柵長為0.5mm，電阻值為120Ω，傳遞變形能力達(dá)1×10-2～2×10-2的微型箔式電阻應(yīng)變計(jì)。它可用于應(yīng)力分析測量和微型傳感器敏感元件方面。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 微型 電阻 應(yīng)變 制造 方法 | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
1.一種微型箔式電阻應(yīng)變計(jì)的制造方法，其中，用離心法制光刻膠膜，用三氯化鐵腐蝕液腐蝕康銅箔，其特征在于，光刻應(yīng)度計(jì)敏感柵用的光刻膠是采用鄰疊苯氮醌型光刻膠-212#正性光刻膠，曝光光源為球型汞燈，采用0.8～12％氫氧化鉀溶液作顯影液，用離心法制基底膜，所說的三氯化鐵腐蝕液的濃度為55～60℃(波美)，溫度為40℃～50℃，腐蝕時間為8～12分鐘。
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