[其他]真空鍍膜采用致冷器的冷卻方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85100062 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100062B | 公開（公告）日： | 1987-10-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 許知止;李春茂;周炳琨 | 申請（專利權(quán)）人： | 清華大學(xué) |
| 主分類號： | F25B21/02 | 分類號： | F25B21/02;C23C14/54 |
| 代理公司： | 清華大學(xué)專利事務(wù)所 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 北京市海*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 真空鍍膜采用致冷器冷卻方法是用在被鍍工件必須冷卻的真空鍍膜技術(shù)中。由于采用致冷器冷卻，和原有的水或液氮冷卻系統(tǒng)相比，具有體積小，結(jié)構(gòu)簡單，操作簡便，裝卸容易，效率高，成本低等優(yōu)點。它特別適用于易受熱損壞的鍍件的真空鍍膜工藝中。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 真空鍍膜 采用 致冷 冷卻 方法 | ||
【主權(quán)項】：
1.一種真空鍍膜的冷卻方法，其特征在于采用一個以上的半導(dǎo)體致冷器〔1〕冷卻被鍍工件〔2〕。
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