[其他]涂敷光刻膠的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 101986000003644 | 申請(qǐng)日: | 1986-06-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN86103644B | 公開(kāi)(公告)日: | 1988-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伊藤鐵男;田沼正之;込義之;門田和也;小林一成 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社日立制作所 |
| 主分類號(hào): | 分類號(hào): | ||
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利代理部 | 代理人: | 李勇 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | 光刻工藝,包括在襯底上旋涂光刻膠并將掩膜圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上而后進(jìn)行曝光,及在圖形被曝光后在襯底上形成該圖形。當(dāng)光刻膠顯影圖形因涂敷光刻膠工藝中的參數(shù)的增加或減少而脈動(dòng)變化時(shí),將參數(shù)的值設(shè)置到與脈動(dòng)的極值相符。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光刻 方法 | ||
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社日立制作所,未經(jīng)株式會(huì)社日立制作所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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