[其他]涂敷光刻膠的方法在審
| 申請號： | 101986000003644 | 申請日： | 1986-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN86103644B | 公開（公告）日： | 1988-11-23 |
| 發明（設計）人： | 伊藤鐵男;田沼正之;込義之;門田和也;小林一成 | 申請（專利權）人： | 株式會社日立制作所 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種涂敷光刻膠的方法，包括下列步驟：將光刻膠旋轉涂敷在襯底上，將掩膜圖形轉移到涂好的光刻膠膜上，而后對光刻膠膜進行曝光并將其顯影，從而在襯底上形成圖形，其特征在于還包括下列步驟：
（a）測量具有各種厚度的光刻膠顯影圖形以找出所測得的寬度-厚度曲線的極值;
（b）利用可響應所述光刻膠的厚度而變化的參數在襯底上形成光刻膠，所述參數設置到基本上與上述極值之一相應。
2、如權利要求1所述的涂敷光刻膠的方法，其特征在于：所述參數是給所述襯底涂敷光刻膠時旋涂器旋轉的數目。
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