[其他]生產摻氟化錫涂層的改進的化學氣相沉積法在審
| 申請號： | 101985000009272 | 申請日： | 1985-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN1005996B | 公開（公告）日： | 1989-12-06 |
| 發明（設計）人： | 喬治·H·林德 | 申請（專利權）人： | MT化學有限公司 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 上海專利事務所 | 代理人： | 徐志奇 |
| 地址： | 美國新澤西州07*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本發明提出一種利用包含活性有機氟摻雜劑和有機錫化合物的液態涂層組合物以形成摻氟氧化錫涂層的改進的化學氣相沉積法，此方法在一組特定的工藝條件下實行，以致制得的涂層具有一個實質上與沉積溫度無關的恒定的和最低的薄層電阻。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 生產 氟化 涂層 改進 化學 沉積 | ||
【主權項】：
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