[其他]鍍鋁薄膜的常溫快速陽極氧化方法在審
| 申請號： | 101985000009238 | 申請日： | 1985-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN1004887B | 公開（公告）日： | 1989-07-26 |
| 發明（設計）人： | 方敬忠;羅贊繼;張海梅;凌凱達 | 申請（專利權）人： | 青海省太陽能研究所 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 青海省專利服務中心 | 代理人： | 劉開鼎 |
| 地址： | 青海省西寧市*** | 國省代碼： | 青海;63 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： |
本發明提供一種鍍鋁膜層的陽極氧化技術，它可為鍍鋁鏡面提供一種有效的保護層。本技術的實質是對非金屬（尤其適用于玻璃、陶瓷）基底材料鍍鋁薄膜采用硫酸及Ｎａ |
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| 搜索關鍵詞： | 鍍鋁 薄膜 常溫 快速 陽極 氧化 方法 | ||
【主權項】：
暫無信息
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