[其他]鍍鋁薄膜的常溫快速陽極氧化方法在審
| 申請號： | 101985000009238 | 申請日： | 1985-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN1004887B | 公開（公告）日： | 1989-07-26 |
| 發明（設計）人： | 方敬忠;羅贊繼;張海梅;凌凱達 | 申請（專利權）人： | 青海省太陽能研究所 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 青海省專利服務中心 | 代理人： | 劉開鼎 |
| 地址： | 青海省西寧市*** | 國省代碼： | 青海;63 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鍍鋁 薄膜 常溫 快速 陽極 氧化 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種在非金屬基底材料上鍍鋁薄膜鏡面的常溫快速陽極氧化方法，其中包括制備鍍鋁膜層、鍍鋁膜層的清洗、陽極氧化處理、封閉處理、成品清洗及干燥，其特征在于，
A.陽極氧化處理在下列條件下進行，
電解液組成
H2SO4（95%以上） 20～100ml/l（水）
Na2SiO3（水玻璃） 20～100g/l（水）
C4H6O6（酒石酸） 3～20g/l（水）
（HO）C6H3（COOH）SO3H·2H2O（磺基水楊酸） 3～20g/l（水）
直流電電流密度1.5～3.5A/dm2，槽電壓15～30V，氧化處理時間2～6分鐘，
B.封閉處理按以下方法之一進行，
（1）封閉液為
Na2SiO3（水玻璃） 30～100g/l（水）
K2Cr4O7 30～50g/l（水）
溶液溫度85～95℃，封閉處理時間5～10分鐘，
（2）封閉液為
Na2SiO3（水玻璃） 50～100g/l（水）
溶液溫度為75～85℃，通以直流電，電流密度控制在0.8～2.0A/dm2，電壓控制在20～50V，封閉處理時間1～3分鐘，
（3）封閉液為
KCr2O4 5～15g/l（水）
溶液溫度為75～85℃，封閉處理時間10～25分鐘。
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