[其他]微型箔式電阻應變計的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 101985000000133 | 申請日: | 1985-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN85100133B | 公開(公告)日: | 1988-03-23 |
| 發(fā)明(設計)人: | 馮仁賢;揚風河;陸符聰 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 清華大學專利事務所 | 代理人: | 張秀珍 |
| 地址: | 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: |
“微型箔式電陽應變計的制造方法”,屬于計量、測試元件制造技術。本方法采用正性光刻膠光刻敏感柵,曝光光源為球形汞燈,采用0.8~12%氫氧化鉀溶液作顯影液,用離心法制基底膜,用濃度為55°~00°(波美)三氯化鐵腐蝕液,一次腐蝕成型。采用此制造方法,能夠制造絲柵寬度小于10微米的康銅敏感柵,基底面積為2mm |
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| 搜索關鍵詞: | 微型 電阻 應變 制造 方法 | ||
【主權項】:
暫無信息
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